[发明专利]一种双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。

背景技术

传统双银低辐射镀膜玻璃采用真空磁控溅射镀膜技术制作，其结构为：玻璃基片，由玻璃基片的一侧向外，依次设置有第一介质层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第二银层、第二保护层及第三介质层，该结构的双银低辐射镀膜玻璃在颜色方面存在一个较大的缺点，该种玻璃在侧面小角度观察时相比于玻璃正面观察时有发红、发紫的现象，其影响玻璃组装后的玻璃幕墙的整体外观，且该种玻璃的膜面颜色发红，不够柔和，观察时有重影，且镀膜玻璃的透过色颜色发绿，不够中性，使玻璃幕墙不能达到颜色柔和、中性，给人以舒适感觉的外观效果。

发明内容

针对上述现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供了一种膜面颜色均匀、柔和及中性的双银低辐射镀膜玻璃；

本发明的目的之二在于提供上述双银低辐射镀膜玻璃的制备方法。

为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种新型双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀在所述玻璃基片表面的膜层；所述膜层自所述玻璃基片的一侧向外依次包括第一介质层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第二银层、第二保护层、第三介质层、第三保护层及第四介质层。

较佳地，所述第一介质层、所述第二介质层、所述第三介质层及所述第四介质层可设置为金属氧化层或硅的氮化层，还可设置为金属氧化层与硅的氮化层组合的两层或多层。所述第一介质层、所述第二介质层、所述第三介质层及所述第四介质层的每层厚度为10～80nm。

所述硅的氮化层优选Si₃N₄层，其结构致密、防水性好，在高温条件下底层的Si₃N₄层能够阻止玻璃的钠离子穿透，避免对银层造成影响；而最外层的Si₃N₄层具有高硬度，保证了膜层具有良好的耐磨耐刮伤特性；其中所述Si₃N₄层的单层厚度为10～80nm。

所述金属氧化层优选AZO层，所述AZO层是由ZnO_X、AlO_X烧制而成的具有陶瓷功能的氧化物膜层，其晶体结构致密，能提高膜层平整度，提高膜层的牢固程度，避免在钢化过程中对银层的氧化。此外，金属氧化层还可选ZnO_X层，所述ZnO_X层是金属锌的氧化物膜层，优选地，所述ZnO_X为氧化锌、过氧化锌中的一种或两种混合物，所述AlO_X为氧化铝、过氧化铝中的一种或两种混合物；其中所述AZO层的单层厚度为5～40nm。

较佳地，所述第一保护层、所述第二保护层及所述第三保护层为NiCr膜层，NiCr具有良好的抗酸碱耐腐蚀性能，能够保护银层不被氧化；优选地，所述第一保护层、所述第二保护层及所述第三保护层的每层厚度为0.5～10nm。

银层为功能层，其对于可见光按具有较高的透过率，能保证自然采光良好，但同时又能有效限制太阳热辐射的透过，尤其是近红外热辐射的透过，较佳地，所述第一银层及所述第二银层的每层厚度为1～30nm。

本发明采用真空磁控溅射镀膜技术制作，包括在所述玻璃基片表面镀膜，具体为，将所述玻璃基片放入真空磁控溅射镀膜设备的靶材室自玻璃基片一侧向外逐层镀膜，所述靶材室的溅射靶材包括AZO陶瓷靶、银靶、镍铬靶、锌铝靶、硅铝靶中的至少一个；

其中，所述AZO陶瓷靶纯度为99.50%～99.99%，所述银靶纯度为99.900%～99.999%，所述镍铬靶为铬镍重量比为20%～30%的镍铬合金靶，镍、铬纯度均为99.900%～99.999%，所述锌铝靶为锌铝重量比为5%～30%的锌铝靶，锌、铝的纯度均为99.900%-99.999%，所述硅铝靶为硅铝重量比为5%～30%的硅铝靶，硅、铝的纯度均为99.900%-99.999%。

所述靶材室的靶型包括旋转靶、平面靶。

本发明相比于现有技术，其在现有技术中的双银低辐射镀膜玻璃的镀膜层的最外层增加了一层保护层和一层介质层，然后通过调整各膜层厚度，即得本发明的镀膜玻璃，其在侧面小角度观察时其颜色与正面观察时的颜色相同（即颜色保持不变）；且透过该镀膜玻璃的玻璃观察其镀膜面，其颜色柔和，无重影；同时本发明的透过色为中性色，整体颜色柔和、美观，给人以舒适的感觉。

附图说明