[发明专利]显示面板用玻璃板、其制造方法及TFT面板的制造方法

说明书

本发明专利申请是国际申请号为PCT/JP2009/057675，国际申请日为2009年04月16日，进入中国国家阶段的申请号为200980114731.6，发明名称为“显示面板用玻璃板、其制造方法及TFT面板的制造方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用于液晶显示(LCD)面板、等离子显示面板(PDP)等各种显示面板的显示面板用玻璃板。本发明的显示面板用玻璃板特别适合作为LCD面板用的玻璃板。

背景技术

一直以来，LCD面板用的玻璃基板采用不含碱金属氧化物的无碱玻璃。其理由是如果玻璃基板中含碱金属氧化物，则在LCD面板的制造工序中所实施的热处理中，玻璃基板中的碱金属离子可能会扩散至用于驱动LCD面板的薄膜晶体管(TFT)的半导体膜，导致TFT特性的劣化。

此外，也因为无碱玻璃的热膨胀系数低，玻璃化温度(Tg)高，因此LCD面板的制造工序中的尺寸变化小，使用LCD面板时热应力对显示品质的影响小，所以作为LCD面板用的玻璃基板是优选的。

然而，无碱玻璃在制造方面存在如下所述的问题。

无碱玻璃具有粘性非常高而难以熔融的性质，在制造中伴有技术上的困难。

此外，对于无碱玻璃，澄清剂的效果通常较差。例如，使用SO₃作为澄清剂的情况下，SO₃(分解)发泡的温度低于玻璃的熔融温度，因此在得到澄清之前，所添加的SO₃大部分分解而从熔融玻璃挥散，无法充分发挥澄清效果。

作为TFT面板用(a-Si TFT面板用)的玻璃基板，还提出了使用含碱金属氧化物的含碱玻璃基板的技术方案(参照专利文献1、2)。这是由于以往在350～450℃进行的TFT面板制造工序中的热处理逐渐可以在较低的温度(250～300℃左右)下进行。

含碱金属氧化物的玻璃由于一般热膨胀系数高，因此通常含有具有使热膨胀系数降低的效果的B₂O₃，从而达到适合作为TFT面板用的玻璃基板的热膨胀系数(专利文献1、2)。

然而，采用含B₂O₃的玻璃组成的情况下，将玻璃熔融时，特别是在熔化工序、澄清工序和浮法成形工序中，B₂O₃发生挥散，因此玻璃组成容易变得不均一。如果玻璃组成不均质，则会对成形为板状时的平坦性造成影响。为了确保显示品质，TFT面板用的玻璃基板被要求具有高度的平坦度，从而保持夹着液晶的2块玻璃的间隔、即液晶盒间隙恒定。因此，为了确保规定的平坦度，在通过浮法成形为平板玻璃后，进行平板玻璃的表面研磨，但如果成形后的平板玻璃无法获得规定的平坦性，则研磨工序所需的时间变长，生产性下降。此外，如果考虑到所述B₂O₃的挥散产生的环境负担，熔融玻璃中的B₂O₃的含有率较好是更低。

但是，如果B₂O₃的含有率低，则难以使热膨胀系数降至作为TFT面板用的玻璃基板的理想的热膨胀系数，并且难以在抑制粘性的上升的同时获得规定的Tg等。

专利文献1：日本专利特开2006-137631号公报

专利文献2：日本专利特开2006-169028号公报

发明的揭示

本发明人认真研究后发现，在所述的低温下的热处理中，低温下的玻璃的收缩(热收缩率)可能会对玻璃基板上的成膜品质(成膜图案精度)造成较大的影响。

为了解决上述现有技术的问题，本发明的目的在于提供含有碱金属氧化物，B₂O₃少，TFT面板制造工序中的低温(150～300℃)下的热处理(具体为形成栅极绝缘膜的工序中的热处理)时的收缩小，特别适合用作大型(例如一边在2m以上的尺寸)的TFT面板用的玻璃基板的显示面板用玻璃基板及其制造方法以及使用所述玻璃板的TFT面板的制造方法。

为达到上述目的，本发明提供一种显示面板用玻璃板，其特征在于，

以氧化物基准的质量％表示，作为玻璃主要组成，包含：

热收缩率(C)在20ppm以下。

本发明的显示面板用玻璃板在TFT面板制造工序中的低温(150～300℃)下的热处理时的收缩小，不易发生玻璃基板上的成膜图案的偏移。因此，适合用作能应对近年来的热处理的低温化的、特别是大型的TFT面板用玻璃基板。