[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201310364328.7 | 申请日： | 2013-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103633000A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 末吉秀树;宫迫久显;荻原洁;滨田崇广 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677;H01L21/66;H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 胡建新;朴勇 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
1.一种基板处理装置，具有检测是否有传送的基板的基板检测装置，其特征在于，
上述基板检测装置具备：
基部；
摆动部件，被安装为相对于上述基部摆动自如；
检测辊，设置在上述摆动部件的一端部，与所传送的上述基板相碰；
配重及磁铁，设置在上述摆动部件的另一端部；
检测传感器，若所传送的上述基板按下上述检测辊，从而上述摆动部件从上述基板与上述检测辊相碰前的上述摆动部件的初始位置向旋转方向旋转，则检测出上述磁铁所产生的磁场的变化，并输出表示检测到上述基板的检测信号；以及
摆动制动器，在上述摆动部件的初始位置，将上述摆动部件保持成相对于与上述基板的传送方向交叉的垂直线倾斜。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述摆动部件具有沿着上述垂直线形成的第1部分、以及从上述第1部分相对于上述垂直线向上述旋转方向侧倾斜地形成的第2部分，
上述检测辊设置在上述第2部分的端部，
上述配重及上述磁铁设置在上述第1部分的端部。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述摆动制动器将上述第1部分保持为相对于上述垂直线倾斜。
4.根据权利要求2或3所述的基板处理装置，其特征在于，
上述配重具有追加配重，该追加配重用于在上述摆动部件的初始位置使上述摆动部件向上述摆动制动器侧推靠。
5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述摆动部件被设置成能够以摆动支点部件为中心摆动，
上述检测辊通过安装轴部设置在上述摆动部件的一端部，
上述安装轴部与上述摆动支点部件之间的距离被设定为，比上述摆动支点部件与上述磁铁之间的距离短。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述摆动制动器将上述摆动部件保持为在30度到50度的范围内相对于上述垂直线倾斜。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
