[发明专利]掩模板清洗设备

权利要求书

1.一种掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，其特征在于：包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。

2.如权利要求1所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电解清洗装置包括清洗池，所述清洗池内盛装有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池设置有两个侧壁，所述掩模板位于所述两个侧壁之间，所述两个侧壁与第一电极连接，所述掩模板与第二电极连接，所述第一电极与第二电极的极性相反。

3.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述掩模板固定于一支架，所述支架挂置于所述侧壁上。

4.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括电控装置，所述电控装置与所述电解清洗装置连接，向所述电解清洗装置输出电流，并对所述电流的大小和通电时间进行设定。

5.如权利要求4所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A～2000A。

6.如权利要求4所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电控装置设置有定时模块，用于当所述通电时间到达预定值时，自动断开所述电流。

7.如权利要求1所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括过滤装置，所述过滤装置与所述电解清洗装置连接，滤除所述清洗液中的颗粒杂质。

8.如权利要求2所述的掩模板清洗设备，其特征在于：所述电极由耐强碱导电材料制成，所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。

9.如权利要求1～8任一项中所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括用于转运所述掩模板的机械手。

10.如权利要求9所述的掩模板清洗设备，其特征在于：还包括防尘外罩，所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。