[发明专利]掩模板清洗设备

说明书

技术领域

本发明涉及清洗设备技术领域，特别涉及一种掩模板清洗设备。

背景技术

有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电致发光二极管)技术中，用于真空蒸镀的掩模板是一项非常重要和关键的部件，该部件的质量直接影响OLED产品的质量和制造成本。

掩模板(Mask)，特别是细小网格的掩模板(Fine Mask)，在初加工成型后，会在网格内或表面残留金属边角料等颗粒物质，影响掩模板的正常使用。在循环使用的过程中，掩模板上也会沾上一层灰尘等杂质，这些杂质在将掩模板再次投入使用前必须清除。

由于掩模板特别是Fine Mask对精度要求非常苛刻，例如，一般要求掩模板的网格大小误差在3μm内，因此，目前传统的清洗设备无法用于对Fine Mask或掩模板进行有效清洗，导致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而严重影响所生产出的OLED显示屏的质量，甚至会产生大量不良品，直接或间接地提高了OLED显示屏的生产成本。

发明内容

本发明的主要目的在于，针对上述现有技术中的不足，提供一种掩模板清洗设备，可有效清洗掩模板表面和网格中的颗粒杂质，并且不会对掩模板造成任何伤害，也不会对掩模板的精度产生不利影响，从而在用于制造OLED显示屏产品时，显著提高产品的良品率。

为实现上述发明目的，本发明采用以下技术方案。

本发明提供的掩模板清洗设备，用于清洗掩模板上的杂质，包括电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置，所述电解清洗装置内盛装有清洗液，所述清洗液为经过电解后可产生高速气体的碱性电解液，所述高速气体带动所述清洗液对所述掩模板进行冲洗；所述漂洗装置邻接于所述电解清洗装置设置，对所述掩模板进行漂洗；所述干燥装置邻接于所述漂洗装置，对漂洗后的所述掩模板进行干燥处理。

优选地，所述电解清洗装置包括清洗池，所述清洗池内盛装有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池设置有两个侧壁，所述掩模板位于所述两个侧壁之间，所述两个侧壁与第一电极连接，所述掩模板与第二电极连接，所述第一电极与第二电极的极性相反。

优选地，所述掩模板固定于一支架，所述支架挂置于所述侧壁上。

优选地，还包括电控装置，所述电控装置与所述电解清洗装置连接，向所述电解清洗装置输出电流，并对所述电流的大小和通电时间进行设定。

优选地，所述电控装置根据所述掩模板不同将电流的大小设定为5A～2000A。

优选地，所述电控装置设置有定时模块，用于当所述通电时间到达预定值时，自动断开所述电流。

优选地，还包括过滤装置，所述过滤装置与所述电解清洗装置连接，滤除所述清洗液中的颗粒杂质。

优选地，所述电极由耐强碱导电材料制成，所述耐强碱导电材料包括钛合金、铅合金或石墨。

优选地，还包括用于转运所述掩模板的机械手。

优选地，还包括防尘外罩，所述电解清洗装置、漂洗装置和干燥装置密封设置于所述防尘外罩内。

本发明具有以下优点：

1、本发明的掩模板清洗设备利用大电流末端放电原理，可对掩模板网格内的金属颗粒进行有效剥离。由于采用的是物理方法来去除杂质，而非直接采用工人或机械接触的方法，因此，可以避免因操作不当而对掩模板产生伤害，从而保证掩模板的精度，提高OLED显示屏的良品率。

2、清洗剂电解产生高速气体，利用气体带动清洗液对掩模板进行冲刷，可以有效提升清洗效果，并避免人为接触。

3、利用强碱作为清洗液，可以有效去除掩模板上的灰尘颗粒，从而可以一次性完成对金属颗粒和灰尘颗粒的清洗，节省清洗工艺，节约清洗成本。

附图说明

图1是本发明实施例中掩模板清洗设备的整体结构示意图。

图2是本发明实施例中电解清洗装置的俯视结构示意图。

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

以下将结合附图及具体实施例详细说明本发明的技术方案，以便更清楚、直观地理解本发明的发明实质。