[发明专利]缺陷检测装置、缺陷修正装置及缺陷检测方法在审
申请号: | 201310377121.3 | 申请日: | 2013-08-26 |
公开(公告)号: | CN103630542A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 大庭博明 | 申请(专利权)人: | NTN株式会社 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G02F1/13 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 宋俊寅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缺陷 检测 装置 修正 方法 | ||
技术领域
本发明涉及缺陷检测装置、缺陷修正装置及缺陷检测方法,特别涉及对形成在基板上的重复图案的缺陷进行检测的技术。
背景技术
在液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)的TFT(Thin Film Transistor:薄膜晶体管)基板等的生产线中,使用对TFT基板的缺陷进行修正的缺陷修正装置。作为修正对象的缺陷的大小有各种各样。特别是,在基板上安装有晶体管等电路的TFT基板中,也存在作为对象的缺陷的大小为几μm的情况。因而,希望利用高分辨率的透镜进行检查。
另外,作为液晶显示器的代表,随着FPD(flat panel display:平板显示器)的大型化的发展,像素尺寸也正在变大。日本专利特开2011-203710号公报(专利文献1)公开了在维持检测分辨率的同时跟踪大面积缺陷的方法。
日本专利特开2011-203710号公报的权利要求8所记载的缺陷修正装置在缺陷延伸到拍摄范围以外的情况下,跟踪延伸部分,对通过使跟踪时拍摄到的图像进行贴合从而生成的图像中包含的缺陷进行检测。
日本专利特开2011-203710号公报中,以能够准确地检测出缺陷为前提进行了各种说明。然而,作为修正对象的缺陷的特征有各种各样。也存在不容易检测出的缺陷。特别是对比度较低的缺陷的检测成为问题。
对于这种问题,日本专利特开2000-146537号公报(专利文献2)提出了使用微分干涉光学系统对TFT基板上的ITO(Indium Tin Oxide:氧化铟锡)膜的缺陷进行检测的方法。然而,在装载激光器的情况下,光学系统变得复杂,从而成为价格昂贵的结构。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2011-203710号公报
专利文献2:日本专利特开2000-146537号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于,提高对于低对比度缺陷的检测灵敏度而无需装载特殊的光学系统。
解决技术问题所采用的技术方案
在某一实施例中,缺陷检测装置包括:摄像头,该摄像头拍摄基板并输出电信号;以及图像处理装置,该图像处理装置中输入有由摄像头输出的电信号。图像处理装置使用从电信号中得到的多个信号各自的图像对比度中较大的对比度,来检测基板的缺陷部。
发明效果
由于使用多个信号各自的图像对比度中较大的对比度来检测缺陷部,因此即使对于在被区分为各信号之前的图像中与正常部之间的对比度较小的缺陷部,也能够检测出缺陷部,而不会使灵敏度显著降低。因而,也无需装载用于检测缺陷部的特殊的光学系统。因此,能够采用简单且廉价的光学系统。由于光学系统成为简单的结构,因此能够抑制维护性的降低。
附图说明
图1是表示缺陷修正装置的整体结构的图。
图2是表示观察光学系统及油墨涂布机构的主要部分的立体图。
图3是表示油墨涂布动作的图。
图4是图像处理装置的功能框图。
图5是表示监视器的画面的图(其一)。
图6是表示监视器的画面的图(其二)。
图7是表示搜索缺陷的顺序的图。
图8是表示搜索位置的图。
图9是表示全景图像的图。
图10是表示X轴工作台及Y轴工作台的坐标值的图。
图11是表示图案间距为h<w时的比较处理的图。
图12是表示图案间距为h≥w时的比较处理的图。
图13是表示除去周期成分后的图像的图。
图14是表示线段状的疑似缺陷的图。
图15是表示作为缺陷候选提取出的外接长方形的图。
图16是表示外接长方形中心的坐标的图。
图17是表示切割开始时的切割位置的中心坐标及切割结束时的切割位置的中心坐标的图。
图18是表示切割作业过程中的切割位置的图。
图19是表示涂布开始时的涂布圆的中心坐标及涂布结束时的涂布圆的中心坐标的图。
图20是表示油墨涂布动作过程中的涂布圆的中心坐标的图。
具体实施方式
下面,参照附图说明本发明的实施方式。以下的说明中,对相同部件附加相同标号。它们的名称及功能也相同。因此,不重复关于它们的详细说明。
[装置结构]
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