[发明专利]元件基板、显示装置及元件基板的制造方法

权利要求书

1.一种元件基板，其特征在于，所述元件基板包括：

一软性基板；

一元件层，设置于所述软性基板上；

一缓冲层，设置于所述软性基板上，并与所述元件层分别位于所述软性基板的相反侧；以及

一界面层，位于所述软性基板与所述缓冲层之间，所述界面层分别包含所述软性基板与所述缓冲层的部分材料。

2.根据权利要求1所述的元件基板，其特征在于，所述软性基板包含有机高分子材料。

3.根据权利要求1所述的元件基板，其特征在于，所述缓冲层的材料包含聚酰亚胺、丙烯或聚硅氧烷的高分子材料。

4.根据权利要求1所述的元件基板，其特征在于，所述界面层由一互穿聚合网络所形成。

5.根据权利要求1所述的元件基板，其特征在于，所述元件基板更包括：

一离型层，设置于所述缓冲层上。

6.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：

一元件基板，具有：

一软性基板；

一元件层，设置于所述软性基板上；

一缓冲层，设置于所述软性基板上，并与所述元件层分别位于所述软性基板的相反侧；及

一界面层，位于所述软性基板与所述缓冲层之间，所述界面层分别包含所述软性基板与所述缓冲层的部分材料。

7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述软性基板包含有机高分子材料，所述缓冲层的材料包含聚酰亚胺、丙烯或聚硅氧烷的高分子材料。

8.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述界面层由一互穿聚合网络所形成。

9.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述元件基板更具有一离型层，所述离型层设置于所述缓冲层上。

10.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述元件基板为一薄膜晶体管基板、一彩色滤光基板、一有机发光二极管基板或一触控基板。

11.一种元件基板制造方法，其特征在于，所述元件基板制造方法包括：

提供一刚性衬底；

形成一缓冲层于所述刚性衬底之上；

形成一软性基板于所述缓冲层上；

进行一热处理工艺，以于所述软性基板与所述缓冲层之间形成一界面层；以及

形成一元件层于所述软性基板上。

12.根据权利要求11所述的元件基板制造方法，其特征在于，于形成所述缓冲层的步骤之前，所述元件基板制造方法更包括：

形成一离型层于所述刚性衬底上。

13.根据权利要求12所述的元件基板制造方法，其特征在于，所述元件基板制造方法更包括：

分离所述离型层与所述缓冲层，以得到所述元件基板，其中所述元件基板包含所述元件层、所述软性基板、所述界面层及所述缓冲层。

14.根据权利要求12所述的元件基板制造方法，其特征在于，所述元件基板制造方法更包括：

分离所述离型层与所述刚性衬底，以得到所述元件基板，其中所述元件基板包含所述元件层、所述软性基板、所述界面层、所述缓冲层及所述离型层。

15.根据权利要求11所述的元件基板制造方法，其特征在于，所述元件基板制造方法更包括：

分离所述缓冲层与所述刚性衬底，以得到所述元件基板，其中所述元件基板包含所述元件层、所述软性基板、所述界面层及所述缓冲层。

16.根据权利要求13所述的元件基板制造方法，其特征在于，于形成所述缓冲层的步骤之前，所述离型层具有一第一表面及与所述第一表面相对的一第二表面，所述第一表面面向所述刚性衬底，所述第二表面具有一第一部分及一第二部分，所述第二部分围设于所述第一部分，所述元件基板制造方法更包括：

调控所述离型层的所述第二表面的粘着性，以使所述第一部分相对于所述第二部分具有较低的粘着性。

17.根据权利要求13所述的元件基板制造方法，其特征在于，于形成所述缓冲层的步骤之前，所述离型层具有一第一表面及与所述第一表面相对的一第二表面，所述第一表面面向所述刚性衬底，所述元件基板制造方法更包括：

调控所述离型层的所述第一表面与所述第二表面的粘着性，以使所述第二表面相对于所述第一表面具有较低的粘着性。