[发明专利]元件基板、显示装置及元件基板的制造方法在审
申请号: | 201310388267.8 | 申请日: | 2013-08-30 |
公开(公告)号: | CN104425514A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 蔡奇哲;许惠珍;吴威谚;张玮芸 | 申请(专利权)人: | 群创光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 元件 显示装置 制造 方法 | ||
技术领域
本发明是关于一种元件基板、显示装置及元件基板的制造方法,特别关于一种软性的元件基板、显示装置及元件基板的制造方法。
背景技术
随着科技的进步,平面显示装置已经广泛的被运用在各种领域,尤其是液晶显示装置或是有机发光二极管显示装置,因具有体型轻薄、低功率消耗及无辐射等优越特性,已经渐渐地取代传统阴极射线管显示装置,而应用至许多种类的电子产品中,例如移动电话、便携式多媒体装置、笔记本电脑、平板电脑及其它显示装置等。
以液晶显示装置为例,液晶显示装置主要包含一液晶显示面板(LCD Panel),而液晶显示面板具有一薄膜晶体管基板、一彩色滤光基板以及一夹设于两基板间的液晶层,两基板与液晶层可形成多个阵列设置的像素。当光线穿过液晶显示面板时,可经由各像素显示色彩而形成图像。以液晶显示装置及有机发光二极管显示装置的未来发展趋势而言,一般业界都希望采用塑胶基板取代现有的玻璃基板,再将TFT、电极、电容等元件制作于塑胶基板上,以达到重量轻、可挠曲、耐摔不易破碎及耐冲击等特性。
但是,塑胶基板在刚性上无法与现有的玻璃基板相提并论,无法直接将塑胶基板应用于目前的TFT生产线上。目前使用的方式是将塑胶基板设置在一刚性衬底(例如玻璃基板)上,再运用现有使用于玻璃基板的工艺设备及技术来制作TFT等元件。不过,于制作TFT等元件之前,需要先以暂时性的粘着材料使塑胶基板粘着于刚性衬底上,在完成TFT元件制作之后,再将具有塑胶基板及TFT元件的薄膜晶体管基板与刚性衬底分离,以得到薄膜晶体管基板。
然而,于现有技术中,受限于没有适合的粘着材料,于塑胶基板制作TFT等元件时只能使用低温工艺来制作,不过,于低温工艺中制作TFT等元件时,元件的电性并不佳,例如薄膜晶体管的通道层的载流子传输速率较差,造成良率降低。但是,若使用高温工艺制作TFT等元件时,虽然可使元件具有较佳的电性,但是,并没有合适的粘着材料可适用于高温工艺的温度。
发明内容
有鉴于上述课题,本发明的目的为提供一种元件基板、显示装置及元件基板的制造方法,可具有高耐热性而适用于高温工艺制作元件,并使制得的元件基板及显示装置具有较佳的电性及良率。
为达上述目的,依据本发明的一种元件基板包括一软性基板、一元件层、一缓冲层以及一界面层(interface layer)。元件层设置于软性基板上。缓冲层设置于软性基板上,并与元件层分别位于软性基板的相反侧。界面层位于软性基板与缓冲层之间,其中界面层分别包含软性基板与缓冲层的部分材料,并经由一热处理工艺而形成。
为达上述目的,依据本发明的一种显示装置包括一元件基板,元件基板具有一软性基板、一元件层、一缓冲层以及一界面层。元件层设置于软性基板上。缓冲层设置于软性基板上,并与元件层分别位于软性基板的相反侧。界面层位于软性基板与缓冲层之间,其中界面层分别包含软性基板与缓冲层的部分材料,并经由一热处理工艺而形成。
为达上述目的,依据本发明的一种元件基板制造方法包括:提供一刚性衬底;形成一缓冲层于刚性衬底之上;形成一软性基板于缓冲层上;进行一热处理工艺,以于软性基板与缓冲层之间形成一界面层;以及形成一元件层于软性基板上。
在一实施例中,软性基板包含有机高分子材料。
在一实施例中,缓冲层的材料包含聚酰亚胺、丙烯或聚硅氧烷的高分子材料。
在一实施例中,界面层是由热处理工艺经冷却后所产生的一互穿聚合网络所形成。
在一实施例中,元件基板更包括一离型层,其设置于缓冲层上。
在一实施例中,元件基板为一薄膜晶体管基板、一彩色滤光基板、一有机发光二极管基板或一触控基板。
在一实施例中,于形成缓冲层的步骤之前,制造方法更包括:形成一离型层于刚性衬底上。
在一实施例中,元件基板制造方法更包括:分离离型层与缓冲层,以得到元件基板,其中元件基板包含元件层、软性基板、界面层及缓冲层。
在一实施例中,元件基板制造方法更包括:分离离型层与刚性衬底,以得到元件基板,其中元件基板包含元件层、软性基板、界面层、缓冲层及离型层。
在一实施例中,元件基板制造方法更包括:分离缓冲层与刚性衬底,以得到元件基板,其中元件基板包含元件层、软性基板、界面层及缓冲层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的