[发明专利]半导体装置、估计寿命的设备和估计寿命的方法无效

专利信息
申请号: 201310389184.0 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN103715167A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 山寄优;广畑贤治 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/544;H01L25/16
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 贺月娇;杨晓光
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 估计 寿命 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置,包括:

电路板;

多个半导体芯片,其被层叠在所述电路板上方;

第一凸起和第二凸起,其被设置在所述电路板与所述半导体芯片之间的空隙中或者两个半导体芯片之间的空隙中,所述第二凸起比所述第一凸起距离所述半导体芯片的周边部分更远;

第三凸起和第四凸起,其被设置在包括所述电路板与所述半导体芯片之间的空隙以及两个半导体芯片之间的空隙的空隙当中的、除了其中设置有所述第一和第二凸起的空隙之外的任何空隙中,所述第四凸起比所述第三凸起距离所述半导体芯片的周边部分更远;

第一检测单元,其被电连接到所述第一凸起以检测所述第一凸起的破损并生成指示所述第一凸起的破损的第一信号;以及

第二检测单元,其被电连接到所述第三凸起以检测所述第三凸起的破损并生成指示所述第三凸起的破损的第二信号。

2.根据权利要求1所述的半导体装置,

其中所述多个半导体芯片包括层叠在所述电路板上方的多个第一半导体芯片以及层叠在所述第一半导体芯片上方的多个第二半导体芯片,

其中所述第一和第二凸起被设置在所述电路板与所述第一半导体芯片之间的空隙中或所述第一半导体芯片中的两个之间的空隙中,且

其中所述第三和第四凸起被设置在所述第一和第二半导体芯片之间的空隙中或所述第二半导体芯片中的两个之间的空隙中。

3.根据权利要求1所述的半导体装置,

其中所述多个半导体芯片包括被设置在所述电路板上方的第一半导体芯片以及被设置在所述第一半导体芯片上方的第二半导体芯片,

其中所述第一和第二凸起被设置在所述电路板与所述第一半导体芯片之间的空隙中,且

其中所述第三和第四凸起被设置在所述第一和第二半导体芯片之间的空隙中。

4.根据权利要求1所述的半导体装置,还包括填充任何空隙的树脂。

5.根据权利要求1所述的半导体装置,还包括穿过所述多个半导体芯片的通孔,所述通孔部分地包括所述第一和第三凸起。

6.根据权利要求5所述的半导体装置,其中所述通孔被配置为包括设置在所述第一和第三凸起之间的绝缘单元,以电隔离所述第一和第三凸起。

7.根据权利要求1所述的半导体装置,

其中所述第一检测单元测量至少所述第一凸起的第一电特性,并比较所述第一电特性与第一阈值,所述第一阈值指示在所述第一凸起的破损时的电特性以检测所述第一凸起的破损,且

其中所述第二检测单元测量至少所述第三凸起的第二电特性,并比较所述第二电特性与第二阈值,所述第二阈值指示在所述第三凸起的破损时的电特性以检测所述第三凸起的破损。

8.根据权利要求7所述的半导体装置,其中所述第一和第二电特性的中的每一者是电阻值、电流值和电压值中的任一者。

9.根据权利要求1所述的半导体装置,还包括:

第一连接单元,其电连接所述第一凸起和所述第一检测单元;以及

第二连接单元,其电连接所述第三凸起和所述第二检测单元,

其中所述第一检测单元还检测所述第一连接单元的破损,且所述第二检测单元还检测所述第二连接单元的破损。

10.根据权利要求1所述的半导体装置,还包括:

第一信号线,其被电连接到所述第一检测单元;

第二信号线,其被电连接到所述第二检测单元;以及

负载估计单元,其被电连接到所述第一和第二信号线以通过所述第一和第二信号线接收所述第一和第二信号,并计算所述第一和第二信号之间接收时间差以基于该时间差估计所述第二或第四凸起的负载状态。

11.根据权利要求10所述的半导体装置,还包括:寿命估计单元,其基于所述负载状态估计所述第二或第四凸起的寿命。

12.根据权利要求10所述的半导体装置,其中所述负载状态指示从所述第二或第四凸起的预定基准位置的位移量或在所述第二或第四凸起上施加的应力。

13.根据权利要求11所述的半导体装置,其中所述寿命表示到所述第二或第四凸起破损为止剩余的时间。

14.根据权利要求11所述的半导体装置,其中所述寿命表示到所述第二或第四凸起破损为止的应力的发生周期数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310389184.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top