[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示装置无效
| 申请号： | 201310390186.1 | 申请日： | 2013-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN103424942A | 公开（公告）日： | 2013-12-04 |
| 发明（设计）人： | 耿淼;高章飞;刘俊豪;程孟德;孔益 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜 |
| 地址： | 230011 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板，包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，其特征在于，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括透明保护层，所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。
3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物，所述隔垫物形成于所述透明保护层上。
4.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1所述的彩膜基板。
5.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、在衬底基板上形成透明导电层；
S2、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层，并在黑矩阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；
S3、在所述开口区域形成彩色滤光层。
6.如权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S3之后还包括步骤S4，在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成透明保护层。
7.如权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S4之后还包括步骤S5，在所述透明保护层的上方形成隔垫物。
8.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S10、在衬底基板上形成透明导电层；
S20、在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层；
S30、在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。
9.如权利要求8所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S30之后还包括步骤S40，在形成有彩色滤光层和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。
10.如权利要求9所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，在步骤S40之后还包括步骤S50，在所述透明保护层上形成隔垫物。
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