[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

目前TN（扭曲向列）模式的TFT-LCD（薄膜晶体管-液晶显示器）制作工艺中，在制备彩膜基板时，黑矩阵2作为第一步在衬底基板1上形成，而彩膜基板的透明导电层4（例如为ITO（铟锡氧化物）层）为倒数第二道工序制成(在隔垫物5之前)，透明导电层裸露在彩膜基板的最上层。如图1所示，为现有的彩膜基板的结构示意图，首先在衬底基板上形成黑矩阵和彩色滤光层，然后形成透明导电层，最后形成隔垫物。

如图2所示，当彩膜基板的透明导电层4或阵列基板的透明导电层6的表面存在微颗粒时，则会使得彩膜基板上的透明导电层通过微颗粒与阵列基板上的透明导电层4上下不正常地导通，而引起的亮点或亮线等不良现象，降低产品成品率。

发明内容

（一）要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是如何避免由于彩膜基板或阵列基板上存在微颗粒而造成两者之间的透明导电层不正常导通，从而引起亮点或亮线的问题。

（二）技术方案

为了解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板，其包括衬底基板、黑矩阵、彩色滤光层和透明导电层，所述透明导电层形成于所述衬底基板和彩色滤光层之间。

进一步地，还包括透明保护层，所述透明保护层形成于彩色滤光层和黑矩阵上。

进一步地，还包括隔垫物，所述隔垫物形成于所述透明保护层上。

本发明一种显示装置，其包括上述的彩膜基板。

本发明一种彩膜基板的制备方法，其包括以下步骤：

S1、在衬底基板上形成透明导电层；

S2、在形成有透明导电层的衬底基板上形成黑矩阵层，并在黑矩阵层上形成用于形成彩色滤光层的开口区域；

S3、在所述开口区域形成彩色滤光层。

进一步地，在步骤S3之后还包括步骤S4，在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成透明保护层。

进一步地，在步骤S4之后还包括步骤S5，在所述透明保护层的上方形成隔垫物。

本发明一种彩膜基板的制备方法，其包括以下步骤：

S10、在衬底基板上形成透明导电层；

S20、在形成有透明导电层的衬底基板上形成彩色滤光层；

S30、在所述彩色滤光层上形成黑矩阵。

进一步地，在步骤S30之后还包括步骤S40，在形成有彩色滤光层和黑矩阵的衬底基板上形成透明保护层。

进一步地，在步骤S40之后还包括步骤S50，在所述透明保护层上形成隔垫物。

（三）有益效果

上述技术方案所提供的一种彩膜基板及其制备方法，将彩膜基板的透明导电层设于衬底基板和彩色滤光层之间，打破了常规的设计思路，实现了彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层的隔离，有效地避免了由于彩膜基板的透明导电层或阵列基板的透明导电层上所沉积的微颗粒而导致彩膜基板的透明导电层和阵列基板的透明导电层不正常导通，进而造成亮线或亮点等不良现象。本发明还提供一种上述技术方案的彩膜基板的显示装置，可提高显示装置的显示效果。

附图说明

图1是现有的彩膜基板的结构示意图；

图2是现有的彩膜基板和阵列基板发生不正常导通的示意图；

图3是本发明的彩膜基板的结构示意图；

图4-图8是本发明实施例一的工艺流程图；

图9-12是本发明实施例二的工艺流程图。

其中，1/10、衬底基板；2/20、黑矩阵；21、黑矩阵层；22、像素树脂；3/30、彩色滤光层；31、子像素；4/40、彩膜基板的透明导电层；5/50、隔垫物；6、阵列基板的透明导电层；60、透明保护层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“正面”、“背面”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

如图3所示，本发明的一种彩膜基板，其包括衬底基板10、黑矩阵20、彩色滤光层30和透明导电层（即透明导电层）40，其中，彩膜基板的透明导电层40形成于衬底基板10和彩色滤光层30之间。