[发明专利]一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310394646.8 申请日: 2013-09-03
公开(公告)号: CN104425648A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 乔在祥;张嘉伟;李巍;姚聪;张旭;冯洋;冯金晖 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300384 天津*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一步法 吸收 层前掺钠 柔性 太阳电池 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于太阳电池制作技术领域,特别是涉及一种一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的制备方法。 

背景技术

铜铟镓硒材料(CIGS)属于I-III-VI族四元化合物半导体,具有黄铜矿的晶体结构。铜铟镓硒薄膜太能电池自20世纪70年代出现以来,得到非常迅速的发展,并将逐步实现产业化。此电池有以下特点:①铜铟镓硒的禁带宽度可以在1.04ev-1.67ev范围内调整。②铜铟镓硒是一种直接带隙半导体,对可见光的吸收系数高达105cm-1。铜铟镓硒吸收层厚度只需1.5~2.5μm,整个电池的厚度为3~4μm。③抗辐照能力强,比较适合作为空间电源。④转换效率高。2010年德国太阳能和氢能研究中心(ZSW)研制的小面积铜铟镓硒薄膜太阳电池转换效率已高达20.3%。⑤弱光特性好。因此铜铟镓硒多晶薄膜太阳电池有望成为下一代太阳电池的主流产品之一。 

随着科学技术的发展,越来越多的领域需要太阳电池即有较高的质量比功率,又能够在恶劣环境中正常使用,这就促进了柔性太阳电池技术的发展。为实现既具有较高的质量比功率,又具有柔性、可折叠性和不怕摔碰的铜铟镓硒薄膜太阳电池,聚酰亚胺(PI)为衬底的铜铟镓硒薄膜太阳电池脱颖而出。然而由于聚酰亚胺的热膨胀系数无法与铜铟镓硒材料本身具有很好的匹配,并且在温度较高时,作为衬底的聚酰亚胺会产生较大的形变,导致铜铟镓硒薄膜较为疏松,容易脱落,而温度较低时,生长出的铜铟镓硒薄膜结晶质量较差,晶粒细小,缺陷较多,增加了载流子的复合,缩短了少子的寿命,进而影响了电池性能。 

发明内容

本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种高温时衬底不变形,生长出的铜铟镓硒薄膜不脱落,并且铜铟镓硒薄膜结晶质量好,晶粒大,缺陷少,电学特性好的一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的制备方法。 

本发明包括如下技术方案: 

一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的制备方法,其特点是:包括以下制备步骤: 

步骤1.制备聚酰亚胺膜-苏打玻璃构成的刚性复合衬底; 

步骤2.在刚性复合衬底的聚酰亚胺膜上制备前掺钠柔性太阳电池;制备过程包括:在步骤1的聚酰亚胺膜上依次制备Mo背接触层、氟化钠预置层、铜铟镓硒吸收层、硫化镉缓冲层、透明窗口层和上电极;所述氟化钠预置层的制备过程包括:制有背接触层的刚性复合衬底置于薄膜制备系统的硒化炉中,将硒化炉抽真空,衬底温度为200-300℃,NaF蒸发源的温度达到800-850℃时,蒸发1-2min;衬底温度达到400-450℃,在Se气氛下进行退火,其中Se蒸发源的温度为240-280℃,退火时间为20-30min;背接触层上形成氟化钠预置层;所述铜铟镓硒吸收层的制作过程包括:制有氟化钠预置层的刚性复合衬底置于薄膜制备系统的硒化炉中;将硒化炉抽真空,刚性复合衬底温度为550-580℃时,共蒸发Cu、In、Ga、Se,其中Cu蒸发源温度为1120-1160℃,In蒸发源温度为850-900℃,Ga蒸发源温度为880-920℃,Se蒸发源温度为240-280℃,蒸发时间为25-30min;关闭蒸发源,刚性复合衬底冷却到25℃时,氟化钠预置层上形成1.5-2μm厚的p-CIGS薄膜,即为铜铟镓硒吸收层。 

步骤3.将聚酰亚胺膜与苏打玻璃分离,完成刚性衬底制备一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的过程。 

本发明还可以采用如下技术措施: 

所述步骤1中刚性复合衬底的制备过程包括:(1)对苏打玻璃进行表面清洗;(2)将聚酰亚胺胶均匀涂覆于苏打玻璃表面,形成聚酰亚胺预制膜;(3)将涂有聚酰亚胺预制膜的苏打玻璃放入烘箱内进行固化,即得到聚酰亚胺膜-苏打玻璃构成的刚性复合衬底。 

所述步骤3中聚酰亚胺膜与苏打玻璃分离过程包括:(1)将制有一步法吸收层前掺钠柔性太阳电池的刚性复合衬底放入真空烘箱,加热至80-90℃,持续2-3min;(2)将刚性复合衬底取出蘸入零下100℃的液氮后,自然回复至室温,聚酰亚胺膜自动从苏打玻璃上脱落,完成刚性衬底制备一步法吸收层前 掺钠柔性太阳电池的过程。 

本发明具有的优点和积极效果: 

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十八研究所,未经中国电子科技集团公司第十八研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310394646.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top