[发明专利]一种有机电致发光器件及其制备方法无效
申请号: | 201310395446.4 | 申请日: | 2013-09-03 |
公开(公告)号: | CN104425733A | 公开(公告)日: | 2015-03-18 |
发明(设计)人: | 周明杰;黄辉;陈吉星;王平 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 电致发光 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种有机电致发光器件,其特征在于,包括玻璃基底以及在所述玻璃基底上依次层叠设置的阳极、散射层、有机发光功能层和阴极;所述散射层包括依次层叠设置在所述阳极上的第一掺杂层、铁盐层与第二掺杂层;所述第一掺杂层的材质为有机材料与铁盐以质量比10∶1~40∶1形成的混合材料,所述第二掺杂层的材质为有机材料与二氧化钛以质量比为1∶1~5∶1形成的混合材料;所述有机材料为2,3,5,6-四氟-7,7,8,8,-四氰基-对苯二醌二甲烷、4,4,4-三(萘基-1-苯基-铵)三苯胺和二萘基-N,N′-二苯基-4,4′-联苯二胺中的一种,所述第一掺杂层和所述铁盐层中的铁盐为氯化铁、溴化铁和硫化铁中的一种。
2.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述第一掺杂层的厚度为10~50nm。
3.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述铁盐层的厚度为5~30nm。
4.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述第二掺杂层的厚度为50~200nm。
5.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述玻璃基底为折射率为1.8~2.2,在400nm透过率为90%以上的光学玻璃。
6.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述有机发光功能层包括发光层,以及包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。
7.如权利要求6所述的有机电致发光器件,其特征在于,所述发光层的材料为4-(二腈甲基)-2-丁基-6-(1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9,10-二-β-亚萘基蒽、4,4'-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)-1,1'-联苯、8-羟基喹啉铝中的一种,厚度为5~40nm;
所述空穴注入层的材料为三氧化钼、三氧化钨或五氧化二钒,厚度为20~80nm;
所述空穴传输层的材料为1,1-二[4-[N,N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]环己烷、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺、N,N’-(1-萘基)-N,N’-二苯基-4,4’-联苯二胺中的至少一种,厚度为20~60nm;
所述电子传输层的材料为4,7-二苯基-1,10-菲罗啉、1,2,4-三唑衍生物或N-芳基苯并咪唑中的一种,厚度为40~250nm;
所述电子注入层的材料为碳酸铯、氟化铯、叠氮铯或氟化锂,厚度为0.5~10nm。
8.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述阳极的材料为铟锡氧化物、铝锌氧化物或铟锌氧化物,厚度为80~300nm。
9.如权利要求1所述的一种有机电致发光器件,其特征在于,所述阴极的材料为金属银、铝、铂或金,厚度为80~250nm。
10.一种有机电致发光器件的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)提供玻璃基底;
(2)在所述玻璃基底上磁控溅射制备阳极;磁控溅射的加速电压控制在300~800V,磁感应强度为50~200G,功率密度为1~40W/cm2,本底真空度为2×10-3~5×10-5Pa;
(3)在所述阳极上蒸镀制备散射层,所述散射层包括依次层叠设置在阳极上的第一掺杂层、铁盐层与第二掺杂层;先采用热阻蒸镀的方法在所述阳极表面上依次制备所述第一掺杂层与铁盐层,蒸镀速率为1~10nm/s;再采用电子束蒸镀的方法在所述铁盐层表面上制备所述第二掺杂层,电子束蒸镀的能量密度为10~100W/cm2;所述第一掺杂层的材质为有机材料与铁盐以质量比10∶1~40∶1形成的混合材料,所述第二掺杂层的材质为有机材料与二氧化钛以质量比为1∶1~5∶1形成的混合材料;所述有机材料为2,3,5,6-四氟-7,7,8,8,-四氰基-对苯二醌二甲烷、4,4,4-三(萘基-1-苯基-铵)三苯胺和二萘基-N,N′-二苯基-4,4′-联苯二胺中的一种,所述第一掺杂层和所述铁盐层中的铁盐为氯化铁、溴化铁和硫化铁中的一种;
(4)在所述散射层上依次蒸镀制备有机发光功能层和阴极,得到有机电致发光器件;
上述步骤(3)、(4)中蒸镀作业的真空度为2×10-3~5×10-5Pa。
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