[发明专利]一种抗蓝光镜片的制作方法

权利要求书

1.一种抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的正、反两个表面分别依次进行真空蒸镀，正面由内向外共五层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层，第四层的五氧化三钛层，第五层的二氧化硅层；反面由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的二氧化锆层，第三层的二氧化硅层；具体的，

镜片基片的正面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.95QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为27sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.00QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第四层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.90QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第五层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.80QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第二层的二氧化锆层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为0.60QWOT，电子枪的电流设为180安培，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为1.65QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr。

2.根据权利要求1所述的抗蓝光镜片的制作方法，其特征在于：该真空镀膜机是祥洲真空机器（股份）公司、龙翩实业有限公司生产的型号为LP-1200EBA的真空镀膜机。

3.根据权利要求1所述的抗蓝光镜片的制作方法，其特征在于：镜片基片的正、反面的第一层的氧化硅层的蒸镀采用抵抗加热法实现，镜片基片的正面的第二层的五氧化三钛层、第三层的二氧化硅层、第四层的五氧化三钛层、第五层的二氧化硅层和镜片基片的反面的第二层的二氧化锆层、第三层的二氧化硅层的蒸镀采用采用EB电子枪法实现。