[发明专利]一种抗蓝光镜片的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及光学镜片的制作方法，尤其涉及抗蓝光镜片的制作方法。

背景技术

蓝光容易对眼睛造成伤害，尤其会加速视网膜黄斑区的细胞氧化，如果黄斑区长期接触蓝光，甚至会损伤视觉细胞，会增加年老时眼睛出现黄斑病变的风险，这种现象称之为蓝光伤害（blue light hazard）。为了避免蓝光伤害，具有部分滤除蓝光波段的光学镜片被发明，此光学镜片又称为抗蓝光镜片。

现有的抗蓝光镜片有利用在镜片材料中加入色粉制成的抗蓝光镜片，如CN101813832A专利所揭示的抗蓝光茶色太阳镜片，还有利用在镜片表层镀膜制成的抗蓝光镜片，如CN1564052专利所揭示的防蓝光伤害保健眼镜片。然而现有技术中缺少衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）50%左右（50%±3%）的抗蓝光镜片，衰减蓝光50%的抗蓝光镜片可在一些场合应用，具有一定商业用途。

发明内容

本发明的目的是提出一种衰减380nm~500nm波长光（主要是蓝光部分）50%左右（50%±3%）的抗蓝光镜片的制作方法。

本发明具体采用如下技术方案实现：

一种抗蓝光镜片的制作方法，在镜片基片的正、反两个表面分别依次进行真空蒸镀，正面由内向外共五层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的五氧化三钛层，第三层的二氧化硅层，第四层的五氧化三钛层，第五层的二氧化硅层；反面由内向外共三层，分别是：第一层的氧化硅层，第二层的二氧化锆层，第三层的二氧化硅层；具体的，

镜片基片的正面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第二层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.95QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为27sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.00QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第四层的五氧化三钛层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为0.90QWOT，电子枪的电流设为409安培，充氧量设为28sccm，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的正面的第五层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为435纳米，监控膜厚设为1.80QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第一层的氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以时间控制方式进行镀膜，设定设备作业条件是：时长设为30秒，抵抗加热的电流设为125安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第二层的二氧化锆层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为0.60QWOT，电子枪的电流设为180安培，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr；

镜片基片的反面的第三层的二氧化硅层的镀膜作业具体是：设定真空镀膜机以光学膜厚监控方式进行镀膜，设定设备作业条件是：反射波长设为610纳米，监控膜厚设为1.65QWOT，电子枪的电流设为150安培，充氧量设为0，炉腔内真空系数设为1.0×10^-4Torr。

优选的，该真空镀膜机是祥洲真空机器（股份）公司、龙翩实业有限公司生产的型号为LP-1200EBA的真空镀膜机。