[发明专利]掩膜版及滤光板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201310407873.X 申请日: 2013-09-09
公开(公告)号: CN104423084A 公开(公告)日: 2015-03-18
发明(设计)人: 唐文静;陈颖明;范刚洪 申请(专利权)人: 上海仪电显示材料有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1335;G03F1/54;G03F7/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张亚利;骆苏华
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 掩膜版 滤光 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜版,用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层,所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口,所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层,其特征在于:

所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层,所述遮光层具有透光区域和遮光区域;

所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应,所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应,所述透光区域包括图案区域,所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部,所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第二开口为多边形或多边形环。

3.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述第二开口的最小线幅为1μm~3μm,所述第二开口与遮光部边界之间的最小距离为1μm~5μm,相邻两个所述第二开口之间的距离为1μm~5μm。

4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述遮光部为多边形、且边长为16μm~50μm。

5.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述图案区域中的所有第二开口排列成阵列。

6.根据权利要求5所述的掩膜版,其特征在于,所述图案区域中的所有第二开口均为矩形、且排列成矩形阵列。

7.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述图案区域中至少有一个所述第二开口为多边形环,所述多边形环将所述图案区域中的其他第二开口包围。

8.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述图案区域中的所有第二开口均为多边形环,且相邻两个多边形环中,一个多边形环将另一个多边形环包围。

9.根据权利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述多边形环为矩形环,所述其他第二开口中至少有一个第二开口为矩形,且所述矩形的各边与矩形环的内圈的各边平行。

10.一种滤光板的制造方法,其特征在于,包括:

提供基底;

在所述基底上形成负性光阻层;

利用权利要求1至9任一项所述的掩膜版对所述光阻层进行图案化,形成遮光图案层或滤光层,所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口,所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层,且所述遮光图案或子画素滤光层上对应所述图案区域的位置形成有凹坑;

形成高度相等的主间隔柱和副间隔柱,且所述副间隔柱位于所述凹坑上方。

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