[发明专利]掩膜版及滤光板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示装置领域，特别是涉及一种掩膜版及一种滤光板的制造方法。

背景技术

图1是现有一种液晶显示装置的剖面结构示意图，如图1所示，液晶显示装置包括：TFT阵列基板1、滤光板2、位于TFT阵列基板1和滤光板2之间的液晶层（未标识）。其中，滤光板2上形成有遮光图案层21和滤光层22。为了使液晶层中的液晶可以很好的固定在一定的空间内，避免液晶的流动造成显示不均匀的问题，在TFT阵列基板1和滤光板2之间形成多个间隔柱（Photo Spacer，简称PS）3，通过间隔柱3限定液晶注入的空间，保持电场均匀，避免影响液晶的灰阶显示。

现有技术中采用光阻制作间隔柱3，液晶显示装置发展初期，各个间隔柱3的高度相同，但是会出现以下问题：光阻材料的弹性较小，因此间隔柱3的弹性也相应较小。然而，实际工作中，液晶显示装置的温度不恒定，会发生变化。在液晶显示装置温度较高的情况下，间隔柱3发生延伸变形，但是该延伸变形很难恢复，由于各个间隔柱3变形的不均匀，会造成液晶盒厚不均匀，从而造成液晶显示装置色彩不均匀，影响显示效果。

为了解决以上问题，现有技术中采用在滤光板上制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱。所谓主间隔柱与副间隔柱之间具有段差是指：副间隔柱的上表面低于主间隔柱的上表面。

现有技术中制作具有段差的主间隔柱和副间隔柱的方法主要包括两种，分别为半色调掩膜法（Half-tone Mask，简称HTM）和灰阶掩膜法（Gray-tone Mask，简称GTM）。然而，利用半色调掩膜法或灰阶掩膜法形成主间隔柱和副间隔柱时，由于光阻层上用于形成副间隔柱的区域所收到的曝光量，远小于光阻层上用于形成主间隔柱的区域所收到的曝光量，造成在后续显影工序中经常出现副间隔柱剥离的现象。特别是随着液晶显示装置分辨率的提高，间隔柱小型化成为技术趋势，此种剥离现象愈发明显，严重影响了产品的良率。

发明内容

本发明要解决的问题是：在形成滤光板的具有段差的主间隔柱和副间隔柱时，容易出现副间隔柱剥离。

为解决上述问题，本发明提供了一种掩膜版，用于形成滤光板上的遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层；

所述掩膜版包括基板和位于所述基板上的遮光层，所述遮光层具有透光区域和遮光区域；

所述透光区域与遮光图案或子画素滤光层的位置对应，所述遮光区域与遮光图案层中的第一开口或滤光层中子画素滤光层之间的间隙的位置对应，所述透光区域包括图案区域，所述图案区域具有设有多个第二开口的遮光部，所述图案区域与滤光板上副间隔柱的位置对应。

可选的，所述第二开口为多边形或多边形环。

可选的，所述第二开口的最小线幅为1μm～3μm，所述第二开口与遮光部边界之间的最小距离为1μm～5μm，相邻两个所述第二开口之间的距离为1μm～5μm。

可选的，所述遮光部为多边形、且边长为16μm～50μm。

可选的，所述图案区域中的所有第二开口排列成阵列。

可选的，所述图案区域中的所有第二开口均为矩形、且排列成矩形阵列。

可选的，所述图案区域中至少有一个所述第二开口为多边形环，所述多边形环将所述图案区域中的其他第二开口包围。

可选的，所述图案区域中的所有第二开口均为多边形环，且相邻两个多边形环中，一个多边形环将另一个多边形环包围。

可选的，所述多边形环为矩形环，所述其他第二开口中至少有一个第二开口为矩形，且所述矩形的各边与矩形环的内圈的各边平行。

在本发明所提供掩膜版的基础上，本发明还提供了一种滤光板的制造方法，包括：

提供基底；

在所述基底上形成负性光阻层；

利用上述任一所述的掩膜版对所述光阻层进行图案化，形成遮光图案层或滤光层，所述遮光图案层具有遮光图案和位于遮光图案之间的第一开口，所述滤光层具有多个间隔排列的子画素滤光层，且所述遮光图案或子画素滤光层上对应所述图案区域的位置形成有凹坑；

形成高度相等的主间隔柱和副间隔柱，且所述副间隔柱位于所述凹坑上方。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：