[发明专利]用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法

权利要求书

1.一种用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于包括以下步骤：

1）在晶圆（1）上进行硬掩膜（2）的生长；

2）在所述硬掩膜（2）上涂覆光刻胶（3）；

3）利用光刻工艺，将光刻版（4）上用于定位光纤阵列（5）的梯形槽（6）的图形转移到所述光刻胶（3）上；

4） 利用等离子刻蚀技术，将所述梯形槽（6）的图形进一步转移到所述硬掩膜（2）上；

5）利用等离子刻蚀技术，在所述晶圆（1）上刻蚀出所述梯形槽（6），该梯形槽（6）的侧壁（7）与所述晶圆（1）的上表面（8）的交界处（9）为光滑的弧形面；

    6）除去所述晶圆（1）上残留的硬掩膜（2）。

2.根据权利要求1所述的用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于：所述梯形槽（6）为等腰梯形槽，其位于所述晶圆（1）的上表面（8）处的最大槽宽小于所述光纤阵列（5）中光纤（10）的直径，所述梯形槽（6）的深度大于所述光纤（10）位于所述梯形槽（6）内的圆弧段的高度，且小于所述晶圆（1）的厚度。

3.根据权利要求1或2所述的用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于：所述梯形槽（6）的侧壁（7）与槽底面（11）之间的夹角θ满足条件：90°<θ≤100°。

4.根据权利要求１所述的用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于：所述硬掩膜（2）为多晶硅、金属Cr或金属Au。

5.根据权利要求1所述的用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于：所述等离子刻蚀技术为感应耦合等离子体刻蚀、反应离子刻蚀或离子束刻蚀。

6.根据权利要求1所述的用于定位光纤阵列的梯形槽的制作方法，其特征在于：所述晶圆（1）为普通玻璃、石英玻璃、硼酸盐玻璃或硅基材料。