[发明专利]一种发光二极管及其制造方法有效
申请号: | 201310422938.8 | 申请日: | 2013-09-16 |
公开(公告)号: | CN104465919B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 朱广敏;郝茂盛 | 申请(专利权)人: | 上海蓝光科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/00 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 李仪萍 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明属于半导体照明领域,特别是涉及一种发光二极管及其制造方法。
背景技术
半导体照明作为新型高效固体光源,具有寿命长、节能、环保、安全等显著优点,将成为人类照明史上继白炽灯、荧光灯之后的又一次飞跃,其应用领域正在迅速扩大,正带动传统照明、显示等行业的升级换代,其经济效益和社会效益巨大。正因如此,半导体照明被普遍看作是21世纪最具发展前景的新兴产业之一,也是未来几年光电子领域最重要的制高点之一。发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,如GaAs(砷化镓)、GaP(磷化镓)、GaAsP(磷砷化镓)等半导体制成的,其核心是PN结。因此它具有一般P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,它还具有发光特性。在正向电压下,电子由N区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子(少子)一部分与多数载流子(多子)复合而发光。
LED照明光源早期的产品发光效率低,只适用在室内场合,在家电、仪器仪表、通讯设备、微机及玩具等方面应用。目前直接目标是LED光源替代白炽灯和荧光灯,这种替代趋势已从局部应用领域开始发展。
随着半导体照明技术的发展,GaN基发光二极管逐渐显示出其独特的优势,如何提高GaN基LED的出光率是当今人们最关心的问题之一,因为GaN基LED的光抽取效率受制于GaN与空气之间巨大的折射率差,根据斯涅耳定律,光从GaN(n≈2.5)到空气(n=1.0)的临界角约为23°,只有在入射角在临界角以内的光可以出射到空气中,而临界角以外的光只能在GaN内部来回反射,直至被自吸收。
当前较为成熟的发光二极管是III族氮化物氮化镓,其一般采用蓝宝石材料作为衬底,由于蓝宝石衬底的绝缘性,所以普通的GaN基LED采用正装结构。正装结构有源区发出的光经由P型GaN区和透明电极出射。该结构简单,制作工艺相对成熟。然而正装结构LED有两个明显的缺点,首先正装结构LED p、n电极在LED的同一侧,电流须横向流过n-GaN层,导致电流拥挤,局部发热量高,限制了驱动电流。更近一步地,对于一般正装结构的发光二极管,其出光面一般为正面出光,这种结构存在以下问题:P电极下方的电流密度较大,发光效率也较高,但由于P电极一般不透光并且会吸收大部分的光线,同样地,经过背面反射 镜反射到N电极上的光线会被N电极吸收,因此会造成电流的浪费和出光率的降低。
因此,提供一种有效提高发光二极管的出光效率,并使电流分布更合理的方法实属必要。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种发光二极管及其制造方法,用于解决现有技术中发光二极管出光效率低,电流分布不合理等问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种发光二极管,至少包括:
生长衬底;
发光外延结构,至少包括N型层、量子阱层及P型层,所述发光外延结构具有去除了部分的P型层、量子阱层及N型层所形成的N电极焊盘制备区域及N电极引线制备区域;
电流扩展层,形成于所述P型层之上,其对应于P电极引线处具有间隔排列的多个开孔;
N电极,包括形成于所述N电极焊盘制备区域的N电极焊盘以及形成于所述N电极引线制备区域的N电极引线;
P电极,包括形成于所述电流扩展层表面的P电极焊盘、及形成于所述电流扩展层表面且填充于所述开孔的P电极引线;
透明绝缘结构,包括:结合于所述N电极焊盘及N电极焊盘制备区域之间的部分界面的第一绝缘层;呈多个绝缘层段结合于所述N电极引线及N电极引线制备区域之间的第二绝缘层;以及结合于所述P型层及电流扩展层之间、位于所述P电极下方、且形状与所述P电极对应的第三绝缘层。
作为本发明的发光二极管的一种优选方案,所述发光二极管的平面形状为平行四边形,所述N电极焊盘与所述P电极焊盘分别位于该平行四边形的两个对角区域,所述N电极引线与所述P电极引线平行排列于该平行四边形的两个对边区域。
进一步地,所述多个开孔与所述多个绝缘层段相互平行且呈错位排列,且所述开孔与所述绝缘层段的平面形状和尺寸相同。
作为本发明的发光二极管的一种优选方案,所述N电极焊盘包覆或部分包覆于所述第一绝缘层,且所述第一绝缘层的面积小于或等于所述N电极焊盘面积的1/2。
作为本发明的发光二极管的一种优选方案,所述透明绝缘结构的材料为二氧化硅,厚度为60~920nm。
作为本发明的发光二极管的一种优选方案,所述第三绝缘层的平面尺寸大于所述P电极的平面尺寸。
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