[发明专利]一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板

权利要求书

1.一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，包括：

使用至少包括第一结构单元图形、第一位置标识图形的第一掩膜板形成所述彩膜基板中的第一结构单元以及第一位置标识，所述第一位置标识位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第一结构单元的位置；

使用至少包括第二结构单元图形、第一覆盖区图形的第二掩膜板形成所述彩膜基板中的第二结构单元以及第一覆盖区，所述第一覆盖区图形位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第二结构单元的位置；

根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定所述第一结构单元与所述第二结构单元之间的位置偏移量。

2.根据权利要求1所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，当所述第一结构单元为黑矩阵，所述第二结构单元为彩色滤光膜时，根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定黑矩阵与彩色滤光膜之间的偏移量。

3.根据权利要求1所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，当所述第一结构单元为黑矩阵，所述第二结构单元为柱状隔垫物时，根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定黑矩阵与柱状隔垫物之间的偏移量。

4.根据权利要求1～3任一项所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，所述第一覆盖区的所占面积不小于所述第一位置标识的所占面积；所述第一位置标识的直径为15～40μm，所述第一覆盖区的直径为40～60μm。

5.根据权利要求1～3任一项所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，所述第一位置标识的形状为长方形、三角形、圆形、正方形、菱形、十字形、星形中的任意一种。

6.根据权利要求1～3任一项所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，所述第一覆盖区的形状为长方形、三角形、圆形、正方形、菱形、十字形、星形中的任意一种。

7.根据权利要求1～3任一项所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，形成的所述第一位置标识位于黑矩阵图形内部。

8.根据权利要求1～3任一项所述的检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，其特征在于，形成的所述第一覆盖区位于黑矩阵图形内部。

9.一种掩膜板，至少包括用于形成彩膜基板结构单元的结构单元图形，其特征在于，所述掩膜板还包括：第一位置标识图形，用于在彩膜基板上形成第一位置标识；

或第一覆盖区图形，用于在彩膜基板上形成第一覆盖区；

其中，第一位置标识或第一覆盖区均位于彩膜基板的显示区域内，用于表征所述结构单元的位置。