[发明专利]一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板。

背景技术

随着显示技术的不断发展和提高，各大面板生产厂商纷纷投资新世代生产线，以期生产出更大尺寸、更清晰画质的显示面板。彩膜基板作为显示面板的重要组成部分，其工艺精度对显示面板显示出的画面品质起着决定性的作用。

如图1所示，通常来说现有技术彩膜基板包括如下结构：基板1、背板ITO膜2、黑矩阵3、彩色滤光膜层4、保护膜层5以及柱状隔垫物6。在制备包括上述结构的彩膜基板过程中，例如：在形成黑矩阵3的基板上形成彩色滤光膜层4或者形成柱状隔垫物6时，现有制备工艺通常利用接近式曝光工艺，其形成的彩色滤光膜层4或者柱状隔垫物6与黑矩阵3之间的位置关系可由设置在彩膜基板显示区域外的位置标识来确定。

然而，当显示面板尺寸增大时，构成显示面板的彩膜基板尺寸也随之增大了。此时，制备较大尺寸的彩膜基板通常利用拼接曝光技术，通过尺寸相对较小的掩膜板图形进行多次分布曝光来完成彩膜基板中包括的各结构单元的制备过程。

在实现上述较大尺寸彩膜基板的制备过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：由于彩膜基板尺寸较大（尤其是彩膜基板显示区域的尺寸大于掩膜板的尺寸），导致无法利用设置在彩膜基板显示区域外的位置标识来确定彩膜基板中各结构单元相互之间的位置关系。因此，当彩膜基板中各结构单元相互之间的位置出现偏差时，技术人员无法确定偏差量并对该偏差进行补正。这会导致彩膜基板出现一系列的问题，例如：当彩色滤光膜与黑矩阵之间存在偏差时，为弥补该偏差通常会加宽彩色滤光膜的线宽。但这将增大黑矩阵与彩色滤光膜之间的重叠区域面积，从而导致扭角段差增加，对显示品质不利；又或者，当柱状隔垫物的位置出现偏差，该偏差可能引起显示面板对盒出现问题，造成不良，降低良率。

发明内容

本发明的实施例提供一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法以及掩膜板，利用上述方法可以准确检测出大尺寸彩膜基板中各结构单元层间位置是否存在偏差以及偏差量，从而实现对大尺寸彩膜基板各结构单元之间位置的准确控制。

为解决上述技术问题，本发明的实施例采用如下技术方案：

一种检测彩膜基板拼接曝光误差的方法，包括：

使用至少包括第一结构单元图形、第一位置标识图形的第一掩膜板形成所述彩膜基板中的第一结构单元以及第一位置标识，所述第一位置标识位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第一结构单元的位置；

使用至少包括第二结构单元图形、第一覆盖区图形的第二掩膜板形成所述彩膜基板中的第二结构单元以及第一覆盖区，所述第一覆盖区图形位于所述彩膜基板的显示区域内，用于表征所述第二结构单元的位置；

根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定所述第一结构单元与所述第二结构单元之间的偏移量。

进一步的，当所述第一结构单元为黑矩阵，所述第二结构单元为彩色滤光膜时，根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定黑矩阵与彩色滤光膜之间的位置偏移量。

进一步的，当所述第一结构单元为黑矩阵，所述第二结构单元为柱状隔垫物时，根据所述第一位置标识与所述第一覆盖区之间的位置偏移量，确定黑矩阵与柱状隔垫物之间的偏移量。

优选的，所述第一覆盖区的所占面积不小于所述第一位置标识的所占面积；所述第一位置标识的直径为15～40μm，所述第一覆盖区的直径为40～60μm。

优选的，所述第一位置标识的形状为长方形、三角形、圆形、正方形、菱形、十字形、星形中的任意一种。

优选的，所述第一覆盖区的形状为长方形、三角形、圆形、正方形、菱形、十字形、星形中的任意一种。

优选的，形成的所述第一位置标识位于黑矩阵图形内部。

优选的，形成的所述第一覆盖区位于黑矩阵图形内部。

另一方面，本发明还提供了一种掩膜板，至少包括用于形成彩膜基板结构单元的结构单元图形，所述掩膜板还包括：第一位置标识图形，用于在彩膜基板上形成第一位置标识；

或第一覆盖区图形，用于在彩膜基板上形成第一覆盖区；

其中，第一位置标识或第一覆盖区位于彩膜基板的显示区域内，用于表征所述结构单元的位置。