[发明专利]相位差膜及其制造方法和显示设备在审
申请号: | 201310425654.4 | 申请日: | 2013-09-17 |
公开(公告)号: | CN103605176A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 吴坤 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B27/26;G02F1/13363 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 相位差 及其 制造 方法 显示 设备 | ||
1.一种相位差膜,其特征在于,包括:相位延迟层和对形成于所述相位延迟层上的固化材料进行固化处理形成的固化材料层。
2.根据权利要求1所述的相位差膜,其特征在于,所述固化材料包括:紫外线固化材料或者热固化材料。
3.根据权利要求1或2所述的相位差膜,其特征在于,所述固化材料层的厚度为:20um至500um。
4.根据权利要求3所述的相位差膜,其特征在于,所述固化材料层的厚度为:20um至100um。
5.一种显示设备,其特征在于,包括:显示装置和位于所述显示装置出光面侧的相位差膜,所述相位差膜采用上述权利要求1至4任一所述的相位差膜。
6.一种相位差膜的制造方法,其特征在于,包括:
步骤一,形成相位延迟层;
步骤二,在所述相位延迟层上形成固化材料;
步骤三,通过固化工艺对所述固化材料进行固化处理,形成固化材料层。
7.根据权利要求6所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述步骤二包括:通过旋涂工艺、狭缝涂布工艺、线棒式涂布工艺或者喷墨式涂布工艺在所述相位延迟层上形成所述固化材料。
8.根据权利要求6所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述固化材料包括:紫外线固化材料。
9.根据权利要求8所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述步骤三包括:
通过紫外线固化工艺对所述紫外线固化材料进行紫外线固化。
10.根据权利要求9所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述紫外线固化工艺中紫外线的波长为:200nm至400nm。
11.根据权利要求10所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述紫外线固化工艺中紫外线的波长为:365nm。
12.根据权利要求9所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述紫外线固化工艺中紫外线的照射时间为:2s至10s。
13.根据权利要求6所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述固化材料包括:热固化材料。
14.根据权利要求13所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述步骤三包括:
通过热固化工艺对所述热固化材料进行热固化。
15.根据权利要求6至14任一所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述固化材料层的厚度为:20um至500um。
16.根据权利要求15所述的相位差膜的制造方法,其特征在于,所述固化材料层的厚度为:20um至100um。
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