[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材

权利要求书

1.透明被膜形成用涂布液，其特征在于，

由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成；

表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(D_A)在10～200nm的范围内；

表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2～30个平均粒径(D_B)在5～20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10^-2～10⁰Ω·cm的范围内的链状导电性粒子；

表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05～35重量％的范围内；

表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025～25重量％的范围内；

基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1～42.5重量％的范围内；

总固体成分浓度在0.5～50重量％的范围内。

2.如权利要求1所述的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，所述表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的折射率在1.60～1.90的范围内，所述表面处理二氧化硅类微粒(A)的折射率在1.15～1.46的范围内。

3.如权利要求1或2所述的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，

表面处理二氧化硅类微粒(A)的表面处理剂是式(1)表示的有机硅化合物，表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的表面处理剂是下式(2)表示的有机硅化合物；

二氧化硅类微粒(A)和有机硅化合物的量比、即有机硅化合物的以R_n-SiX_4-n/2计的重量/二氧化硅类微粒的以固体成分计的重量在0.01～0.5的范围内，链状导电性金属氧化物粒子(B)和有机硅化合物的量比、即有机硅化合物的以SiO₂计的重量/链状导电性金属氧化物粒子的以固体成分计的重量在0.005～0.2的范围内；

R_n-SiX_4-n       (1)

这里，式中，R是碳数1～10的非取代或取代烃基，可以彼此相同也可以彼此不同；X:碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢，n:1～3的整数；

SiX₄       (2)

这里，式中，X是碳数1～4的烷氧基、羟基、卤素、氢，可以彼此相同也可以彼此不同。

4.如权利要求1～3中任一项所述的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，所述表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是表面处理链状掺锑氧化锡粒子(ATO)。

5.如权利要求1～3中任一项所述的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，所述表面处理二氧化硅类微粒(A)是表面处理二氧化硅类中空微粒。

6.如权利要求1所述的透明被膜形成用涂布液，其特征在于，所述基质形成成分是有机树脂基质形成成分和/或溶胶凝胶类基质形成成分。