[发明专利]透明被膜形成用涂布液及带透明被膜的基材在审
申请号: | 201310428948.2 | 申请日: | 2013-09-18 |
公开(公告)号: | CN103666007A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 箱嶋夕子;松田政幸;村口良 | 申请(专利权)人: | 日挥触媒化成株式会社 |
主分类号: | C09D7/12 | 分类号: | C09D7/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯莉 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透明 形成 用涂布液 基材 | ||
技术领域
本发明涉及一种用于形成透明被膜的透明被膜形成用涂布液和带透明被膜的基材,该透明被膜通过涂布一次包含折射率高的链状的导电性金属氧化物粒子成分和折射率低的二氧化硅类粒子成分的一种涂布液,就至少具有防静电性能和防反射性能,特别是在透明被膜中,导电性成分的含量从透明被膜的下层往上层逐渐减少,另一方面,低折射率成分的含量从透明被膜的上层往下层逐渐减少,其结果是,折射率从下层往上层逐渐降低,光透射率、透明性优异,具有防静电、防反射性能。
背景技术
一直以来,为了防止玻璃、塑料板、塑料透镜等基材表面的反射,已知在其表面形成防反射膜,例如已知通过涂布法、蒸镀法、CVD法等在玻璃或塑料基材表面形成氟树脂、氟化镁之类的低折射率的物质的被膜,或是在基材表面涂布含有二氧化硅微粒等低折射率微粒的涂布液、形成防反射被膜的方法(例如参照日本专利特开平7-133105号公报(专利文献1)等)。此时,为了提高防反射性能,也已知在防反射被膜的下层形成含有高折射率的微粒等的高折射率膜。
为了赋予基材防静电性能、电磁波屏蔽性能,还实施形成含有导电性的氧化物微粒、金属微粒等的导电性被膜的方法。例如,为了防止阴极射线管、荧光显像管、液晶显示板等显示面板之类的透明基材表面的静电和反射,实施在它们的表面形成具有防静电功能和防反射功能的透明被膜的方法。
特别是近年来,实施层叠上述各种功能性被膜后再使用的方法。例如,实施在基材上形成硬质涂膜、形成导电性被膜或高折射率被膜、形成防反射膜的方法。
然而,因为各膜由涂布涂料、干燥、根据需要使其固化的工序形成,所以形成上述多层膜时需要多道工序,各膜间的密合性不足,生产性、经济性等存在问题。
此外,本申请人在日本专利特开2003-12965公报(专利文献2)中提出,通过使用平均粒径不同、包含粒径小的导电性微粒和粒径大的低折射率微粒这两种不同的微粒的涂布液,可通过一次涂布形成粒子分为上下两层、防反射性能和防静电性能优异的导电性被膜。然而,专利文献2中,有时无法以两种微粒完全上下分离的形式形成微粒层,因此有时防反射性能、防静电性能不足,还有时与塑料等基材的密合性低、且膜的强度不足。
此外,本申请人在日本专利特开2008-291175号公报(专利文献3)中公开,通过在基材上涂布一次使折射率和表面电荷量不同的两种经表面处理的金属氧化物微粒分散在亲水性基质形成成分和疏水性基质形成成分的混合基质形成成分中而得的涂料,可形成两种金属氧化物微粒发生层分离、折射率具有梯度的透明被膜。
然而,专利文献3的情况下,因为使用亲水性和疏水性的两种基质形成成分,所以即使透明被膜的折射率具有梯度,也无法成为平缓的梯度,而是成为实质上分离成两层的透明被膜,有时无法得到高度的防反射性能、高度的光透射率。
本申请人在日本专利特开2007-321049号公报(专利文献4)、日本专利特开2008-19358号公报(专利文献5)中还提出,通过将用有机硅化合物等进行了表面处理的金属氧化物微粒的表面电荷量控制在特定的范围内,使其分散在基质中,从使金属氧化物更多地存在于被膜中。
然而,专利文献4和5中,与专利文献2同样地以不均匀地存在为目的,因此未必能发挥出本发明的目标特性,还有塑料等基材上的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开平7-133105号公报
专利文献2:日本专利特开2003-012965号公报
专利文献3:日本专利特开2008-291175号公报
专利文献4:日本专利特开2007-321049号公报
专利文献5:日本专利特开2008-019358号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
本发明人认为,为了进一步提高防反射性能,要使两种粒子在膜中不处于分离成两层的状态,而是两种粒子都具有浓度梯度。
为了解决该问题而进行了认真研究,结果发现,如果将粒径彼此不同、折射率高的经表面处理的链状导电性金属氧化物粒子和表面处理二氧化硅类微粒混合使用,则不会分离成两层,粒子的分布产生浓度梯度,能使导电性金属氧化物粒子在基材侧较少分布,越靠上层则分布越多,从而完成了本发明。
本发明的构成如下所述。
[1]透明被膜形成用涂布液,其特征在于,
由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成;
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