[发明专利]晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统及其工作方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统及其工作方法。

背景技术

随着晶圆的尺寸越来越大和关键尺寸越来越小，晶圆背面的缺陷越来越受到重视，因为晶圆背面的缺陷会对光刻机的工艺产生影响。现有技术的晶圆表面颗粒物缺陷检测系统，在晶圆背面扫描后，对于晶圆背面缺陷的目检，却只能通过相关人员手动操作。易对晶圆造成损坏，故不宜长久进行人工操作。

因此，需要对现有的晶圆表面颗粒物缺陷检测系统进行改造，使之能具备晶圆背面的缺陷的自动目检功能，让晶背缺陷扫描目检更自动化、全面化，减少人工操作对晶圆的损坏。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统及其工作方法，该系统能丢晶圆背面的缺陷进行自动目检，让晶背缺陷扫描目检更自动化、全面化，减少人工操作对晶圆的损坏。

为解决上述问题，本发明提供一种晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统，包括：

晶圆扫描装置，用于对晶圆背面的颗粒进行扫描；

晶圆翻转装置，用于对晶圆进行翻转，使得晶圆背面向上，以供所述晶圆扫描装置进行扫描；

光学目检装置，用于对晶圆背面的颗粒进行目检；

晶圆传输装置，用于在所述晶圆扫描装置、晶圆翻转装置和光学目检装置之间传输晶圆。

可选地，所述光学目检装置包括：

可移动载物台，用于承载晶圆；

汞灯光学放大镜，用于对晶圆的背面进行目检；

控制模块，用于控制所述可移动载物台和汞灯光学放大镜进行工作；

数据传输模块，用于将汞灯光学放大镜的目检结果向外部进行传输。

可选地，所述汞灯光学放大镜包括亮场和/或暗场。

可选地，所述汞灯光学放大镜的放大倍率包括三级。

可选地，所述汞灯光学放大镜的放大倍率包括：100倍的一级，500倍的二级，1000倍的三级。

可选地，所述控制模块用于设定对晶圆的背面目检的规则。

可选地，所述控制模块设定对晶圆的背面检测的规则为缺陷尺寸从大到小，亮场自动检测50颗，光学显微镜放大倍率为自动调节。

可选地，所述光学目检装置在所述晶圆扫描装置对晶圆背面扫描后，对晶圆背面进行目检。

可选地，所述晶圆扫描装置、晶圆翻转装置和光学目检装置围绕所述晶圆传输装置设置。

可选地，包括：

提供晶圆至晶圆传输装置，所述晶圆正面向上；

利用晶圆传输装置将所述晶圆传输至晶圆翻转装置；

利用晶圆翻转装置将晶圆背面向上；

利用晶圆传输装置将所述背面向上的晶圆从所述晶圆翻转装置传输至晶圆扫描装置；

利用所述晶圆扫描装置对晶圆背面进行扫描；

在晶圆背面扫描结束后，利用晶圆传输装置将晶圆传输至光学目检装置，对晶圆进行光学目检。

与现有技术相比，本发明具有以下优点：

本发明提供的晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统，能够在晶圆背面扫描后，对晶圆背面进行自动目检，使得晶背缺陷扫描目检更自动化、全面化，减少人工操作对晶圆的损坏；

进一步优化地，所述光学目检装置包括：数据传输模块，能够将目检结果向外部传输，便于对缺陷进行分析和判断；

进一步优化地，所述汞灯光学放大镜包括亮场和/或暗场，以及所述汞灯光学放大镜的放大倍率包括三级，保证了目检的全面性和准确性；

进一步优化地，所述控制模块用于设定对晶圆的背面目检的规则，可预先通过控制模块设定目检规则；

可选地，所述晶圆扫描装置、晶圆翻转装置和光学目检装置围绕所述晶圆传输装置设置，该多个装置共用一个晶圆传输装置，使得整个晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统更加紧凑和集中。

附图说明

图1是本发明一个实施例的晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统的结构示意图；

图2是本发明一个实施例的晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统的工作方法流程示意图。

具体实施方式

现有技术的晶圆表面颗粒物缺陷检测系统，在晶圆背面扫描后，对于晶圆背面缺陷的目检，却只能通过相关人员手动操作。易对晶圆造成损坏，故不宜长久进行人工操作。

为解决上述问题，本发明提供一种晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统，请参考图1所示的本发明一个实施例的晶圆表面颗粒物的缺陷检测系统的结构示意图，所述晶圆表面颗粒物的检测系统包括：

晶圆扫描装置30，用于对晶圆背面的颗粒进行扫描；