[发明专利]HIV逆转录酶抑制剂依法韦伦类化合物的一锅法不对称合成工艺有效

专利信息
申请号: 201310438807.9 申请日: 2011-01-06
公开(公告)号: CN103664816A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 姜标;李金华;张琛;李晓贤 申请(专利权)人: 中国科学院上海有机化学研究所
主分类号: C07D265/18 分类号: C07D265/18;C07C215/44
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 邬震中
地址: 200032 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: hiv 逆转录 抑制剂 依法 韦伦类 化合物 一锅 不对称 合成 工艺
【权利要求书】:

1.一种通过连续的一锅反应不对称合成具有如下结构通式的化合物的方法, 

式中Y为氢、单取代或多取代的拉电子或给电子基团;Y位于苯环的邻、间或对位; 

Rf为C1-C20的全氟烷基; 

R为三(C1-C20)烷基硅基烷基或叔丁基二苯基硅基、、R6取代的C1-C20烷基、R6取代的C3-C7环烷基、R6取代的C1-C20的烷氧基、R6取代的C1-C20的硫代烷氧基、R6取代的苯基、R6取代的苄基、R6取代的萘基、R6取代的呋喃、R6取代的噻吩、R6取代的吡咯、R6取代的噻唑、R6取代的吡唑、R6取代的咪唑、R6取代的吡啶、R6取代的嘧啶、R6取代的三氮唑或R6取代的四氮唑、R6取代的苯并呋喃、R6取代的苯并噻吩或R6取代的苯并吡咯; 

所述的卤素是F、Cl或Br; 

所述的取代基R6指氢、卤素、硝基、羟基、甲基、乙基、异丙基、异丁基、叔丁基、环丙基、环丁基、环戊基、环己基、甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、CN、CF3、CHF2、CF3O、CHF2O、CH3SO2或CH3CH2SO2;取代方式是单取代、二取代或三取代;取代基的位置在芳基的邻位、对位和间位中的任意位置; 

其特征是通过下述步骤(b)、或步骤(a)和(b)二种方法获得: 

(a).氨基的保护:将式II化合物或其盐酸盐, 

在碱存在下,有机溶剂与水的混合溶剂中,在温度0℃到60℃下,与ClCOOR5反应1-72小时,萃取并减压浓缩蒸干可得到式(III)化合物, 

其中,R5是含R6的C1-C20的烷基、含R6的C3-C7的环烷基、含R6的苯基或含R6的萘基;所述的R6的定义如前所述; 

所述有机溶剂与水的反应摩尔比为(20-1):1; 

所述的碱为无机碱或有机碱;其中无机碱选自碱金属的氢氧化物、碱金属的碳酸盐、碱金属的碳酸氢盐、碱金属的醇盐、碱金属的磷酸盐或碱金属的磷酸氢盐;有机碱选自MeN(i-Pr)2、HNEt2、N(i-Pr)3、吡啶、NEt3、哌啶、EtN(i-Pr)2或Bu3N; 

所述的式II化合物或盐酸盐:碱:ClCOOR5摩尔比为1:(1-20):(1-20); 

(b).手性的氨基醇配体与端炔和Zn盐或Cu盐及有机碱混合于有机溶剂中,与式III的化合物在0-60℃发生不对称加成,反应1-48小时得不对称加成产物不经分离,直接在反应体系中升高温度,于60℃至回流温度发生环化,反应5-48小时后得到目标化合物: 

所述的端炔为所述的R的定义如前所述; 

步骤a或b中所述有机溶剂选自乙腈、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、二氧六环、Et2O、二甲醚、甲基叔丁基醚、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丙酯、苯、甲苯、二甲苯、正己烷、正庚烷、正辛烷、环己烷、CH2Cl2、1,2-二氯乙烷、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、丙酮、甲醇、乙醇、异丙醇或者它们的混合物; 

所述的式III化合物:手性的氨基醇配体:端炔:Zn盐或Cu盐:有机碱的摩尔比为1:(0.1-3):(0.1-3):(0.1-3):(0.1-4); 

所述的手性的氨基醇配体具有如下结构式的化合物或其全部对映或非对映异构体: 

其中,R1,R2是相同或不同的基团;R1、R2是任何合适的氨基保护基,R6取代的C1-C20烷基、R6取代的苄基、三(C1-C20)烷基硅基、叔丁基二苯基硅基;或者R1,R2为—(CH2)nX(CH2)m—,其中X为CH2、O、S或NH;n,m为1到6的整数;所述R6的定义如前所示; 

R3为氢、R6取代的C1-C20烷基、R6取代的C3-C7环烷基、R6取代的C1-C20烷氧基、R6取代的C1-C20硫代烷氧基、R6取代的C1-C20羧基、R6取代的C1-C20烷氧羰基、R6取代的C1-C20硫代烷氧羰基、R6取代的苯基、R6取代的苄基、R6取代的呋喃、R6取代的噻吩、R6取代的吡咯、R6取代的吡啶、R6取代的嘧啶、R6取代的噻唑、R6取代的吡唑、R6取代的咪唑、R6取代的三氮唑、R6取代的四氮唑、R6取代的苯并呋喃、R6取代的苯并噻吩、R6取代的苯并吡咯或CH2OR4;其中R4为氢、R6取代的C1-C20烷基,R6取代的C3-C7环烷基、三(C1-C20)烷基硅基、叔丁基二苯基硅基、R6取代的苄基、R6取代的苯基、R6取代的三苯甲基、R6取代的萘基、R6取代的嘧啶基、R6取代的吡啶基或R6取代的噻唑基;所述R6的定义如前所示 

Z为氢、单取代或多取代的拉电子或给电子基团,Z位于苯环的邻、间或对位;所述拉电子基团是卤素、OH、NO2、CN、CF3、CHF2、CF3O、CHF2O、CH3SO2、CH3CH2SO2、PhCH2OCO、PhCH2O或AcO;所述给电子基团是C1-C3烷氧基、OH、Me2NCH2CH2O、Et2NCH2CH2O、NH2或C1-C4烷基。 

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