[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、液晶面板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201310446572.8 申请日: 2013-09-26
公开(公告)号: CN103488003A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 王孝林 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1368;G02F1/1362
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法 液晶面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板,位于所述基板上的亚像素,所述亚像素所在区域设置有第一电极和第二电极,还包括位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层;

其中,所述第一电极和第二电极至少之一的表面为曲面。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括位于所述基板与所述第二电极之间的第二绝缘层,所述第二绝缘层具有沿第一方向延伸的凹槽区域,所述第二电极依照所述第二绝缘层的形状设置于其上形成凹槽状。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述基板具有沿第一方向延伸的凹槽区域,所述第二电极依照所述基板的形状设置于其上形成凹槽状。

4.根据权利要求2或3所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽区域沿与所述第一方向垂直的第二方向的纵截面为倒立的梯形状。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽状第二电极的至少一个侧表面与所述基板之间的夹角非0°且非90°。

6.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层的凹槽区域的深度等于或小于除所述凹槽区域之外的区域的厚度。

7.根据权利要求2或3所述的阵列基板,其特征在于,所述第一电极由一个或多个沿第一方向延伸的子电极组成,所述第一电极距离所述凹槽状第二电极的两个侧表面的最短距离为1~4.5um。

8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:位于各亚像素周围沿第一方向分布的多条栅线和沿与第一方向垂直的第二方向分布的多条数据线,所述第二绝缘层位于所述栅线上;或者还包括:

位于各亚像素周围沿第一方向分布的多条数据线和沿与第一方向垂直的第二方向分布的多条栅线,所述第二绝缘层位于所述数据线上。

9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述第二绝缘层为透明树脂或黑色遮光树脂。

10.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

在基板上形成位于亚像素的区域中的第一电极和第二电极图形,以及位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层;其中,所述第一电极和第二电极至少之一的表面为曲面。

11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在基板上形成位于亚像素的区域中的第一电极和第二电极图形,以及位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层具体为:

在所述基板上形成一层设定厚度的绝缘层,采用构图工艺在该绝缘层的预设区域形成具有沿第一方向延伸的凹槽区域,具有凹槽区域的绝缘层为第二绝缘层;

在形成有所述第二绝缘层的基板上形成一层导电膜层,通过构图工艺形成位于所述第二绝缘层上的第二电极图形,所述第二电极依照所述第二绝缘层的形状设置于其上形成凹槽状;

在形成有所述第二电极的基板上形成一层绝缘层,该绝缘层为用于绝缘所述第二电极和待形成的第一电极的第一绝缘层;

在形成有所述第一绝缘层的基板上形成一层导电膜层,通过构图工艺形成位于所述第一绝缘层上方的第一电极图形。

12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述第二绝缘层的凹槽区域的深度等于或小于第二绝缘层中除所述凹槽区域之外的区域的厚度。

13.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在基板上形成位于亚像素的区域中的第一电极和第二电极图形,以及位于第一电极和第二电极之间的第一绝缘层具体为:

通过构图工艺在所述基板上的预设区域形成具有沿第一方向延伸的凹槽区域;

在形成有凹槽区域的基板上形成一层导电膜层,通过构图工艺形成位于所述基板上的第二电极图形,所述第二电极依照所述基板的形状设置于其上形成凹槽状;

在形成有所述第二电极的基板上形成一层绝缘层,该绝缘层为用于绝缘所述第二电极和待形成的第一电极的第一绝缘层;

通过镀膜工艺在形成有所述第一绝缘层的基板上形成一层导电膜层,通过构图工艺形成位于所述第一绝缘层上方的第一电极图形。

14.一种液晶面板,其特征在于,包括权利要求1-9任一权项所述的阵列基板。

15.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求14所述的液晶面板。

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