[发明专利]金属掩模片供给系统无效

专利信息
申请号: 201310450189.X 申请日: 2013-09-25
公开(公告)号: CN104139996A 公开(公告)日: 2014-11-12
发明(设计)人: 滨砂智训 申请(专利权)人: 新东超精密有限公司
主分类号: B65H3/16 分类号: B65H3/16;B65H5/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 熊传芳;苏卉
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 金属 掩模片 供给 系统
【权利要求书】:

1.一种金属掩模片供给系统,其特征在于,具备:

配置部,配置片盒,其中,金属掩模片和保护所述金属掩模片的保护片交替层叠地收纳于所述片盒;

分离装置,通过在隔着所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所设置的至少一对磁浮子,使配置于所述配置部的所述片盒所收纳的所述金属掩模片一张张地分离;以及

搬运装置,保持由所述分离装置分离的所述金属掩模片中位于最上部的所述金属掩模片并搬运给其他装置。

2.根据权利要求1所述的金属掩模片供给系统,其特征在于,

具备废弃装置,该废弃装置在位于最上部的所述金属掩模片被搬运之后使所述保护片中位于最上部的保护片移动到规定的废弃场所。

3.根据权利要求1或2所述的金属掩模片供给系统,其特征在于,

所述搬运装置具备通过电磁力或真空吸附来保持所述金属掩模片的保持部。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的金属掩模片供给系统,其特征在于,

具备移动装置,该移动装置在所述分离装置使所述金属掩模片一张张地分离时使所述磁浮子接近所述片盒。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的金属掩模片供给系统,其特征在于,

使用所述金属掩模片制造的金属掩模用于有机EL元件、半导体元件、印刷基板以及液晶显示元件的任一个的制造工序中。

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