[发明专利]一种紫外荧光滤光片及其制备方法

权利要求书

1.一种紫外荧光滤光片，其特征在于：所述紫外荧光滤光片可用于皮肤损伤检测，所述紫外荧光滤光片包括一基片、一（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系，所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系镀制于基片上，所述紫外荧光滤光片于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm两个波段均截止。

2.根据权利要求1所述的一种紫外荧光滤光片，其特征在于：所述基片为K9玻璃，所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系是由复数高折射率膜层和低折射率膜层构成，所述高折射率膜层所用材料为Ta₂O₅，所述低折射率膜层所用材料为SiO₂。

3.一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述紫外荧光滤光片可用于皮肤损伤检测，所述方法包括如下步骤：

步骤10、结合皮肤的光学性质得到皮肤荧光峰值对应的紫外光谱，并以此作为紫外荧光滤光片的指标；

步骤20、根据紫外荧光滤光片的指标选择基片材料、高折射率膜层以及低折射率膜层材料；

步骤30、根据紫外荧光滤光片的指标设计膜系结构和紫外荧光滤光片结构，并进行相应的仿真和优化，得到符合紫外荧光滤光片的指标的膜系；步骤40、对所得的膜系进行容差分析；

步骤50、根据容差分析结果，选择相应的薄膜制备方法进行制备紫外荧光滤光片并进行相应的检测。

4.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述紫外荧光滤光片的指标于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm两个波段均截止。

5.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述步骤20中，基片的材料为K9玻璃，所述高折射率膜层所用材料为Ta₂O₅，所述低折射率膜层所用材料为SiO₂。

6.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述步骤30设计的膜系结构为（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系，且所述（G（0.5HL0.5H）^{^s}A）膜系为于330nm～400nm高透，于290nm～310nm和410nm～780nm两个波段均截止。

7.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述步骤40中的容差分析，是在TFC软件中进行的。

8.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述步骤50中相应的薄膜制备方法为射频磁控溅射、电子束蒸发、离子束辅助镀膜、原子层外延或MOCVD。

9.根据权利要求3所述的一种紫外荧光滤光片的制备方法，其特征在于：所述步骤50中相应的检测方式为紫外分光光度计进行的检测。