[发明专利]一种紫外荧光滤光片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310450681.7 申请日: 2013-09-27
公开(公告)号: CN103529506A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 马钰慧;邱伟彬 申请(专利权)人: 华侨大学
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;A61B5/00
代理公司: 泉州市文华专利代理有限公司 35205 代理人: 廖仲禧
地址: 362000 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 紫外 荧光 滤光 及其 制备 方法
【说明书】:

【技术领域】

发明涉及一种紫外荧光滤光片及其制备方法。

【背景技术】

近年来,成像技术发展迅速,它从传统的可见光成像诞生红外成像和紫外成像,其中紫外成像包括紫外荧光成像和紫外反射成像两部分。不同的光谱成像应用于不同的领域。在刑事侦察领域,皮肤伤痕即表皮至真皮层的照相可捕获到重要的证据,如凶器形状、凶手的相关信息等;在皮肤医学领域,皮肤伤痕即表皮至真皮层的成像可监测到皮肤的健康状况,利于皮肤的医学治疗。该检测系统中最关键的是紫外带通滤光片,滤光片性能的好坏严重影响成像的效果。

目前市场上已有的紫外成像系统为紫外反射成像系统,其被广泛应用于刑侦中指纹的提取和现场勘查;红外成像系统被应用于皮肤(真皮层)损伤探测,但红外成像在皮肤伤痕鉴定中有许多弊端,如成本高,设备复杂,曝光时间太长等。因此操作简单、易携带的紫外荧光成像系统的研制成为一种需求和必然趋势,而其中紫外滤光片的研制将成为重中之重。

近年来,国内紫外滤光片的应用分为以下几类:指纹鉴定、现场勘察和医学美容,而关于皮肤损伤检测用滤光片的论文和产品比较少见。对于指纹鉴定方面,滤光片的应用很广泛,为中心波254nm的窄带滤光片,对于现场勘察滤光片,其通带为450nm~520nm,对于医学美容方面,其通带为200nm~550nm,而对于皮肤损伤检测用滤光片国内的理论研究很少,国外方面,此类滤光片有所应用,但是价格昂贵。

因此,如果可以研制出一种用于皮肤损伤检测用的紫外滤光片,将很好地解决上述所有的问题和缺点,开拓科研领域,服务刑事侦察和日常生活,其市场前景也将会很可观。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题之一,在于提供一种紫外荧光滤光片,能够用于紫外荧光成像中紫外光源特定光谱的捕捉,利于皮肤损伤检测工作。

本发明是这样实现上述技术问题之一的:

一种紫外荧光滤光片,所述紫外荧光滤光片可用于皮肤损伤检测,所述紫外荧光滤光片包括一基片、一(G(0.5HL0.5H)^sA)膜系,所述(G(0.5HL0.5H)^sA)膜系镀制于基片上,所述紫外荧光滤光片为于330nm~400nm高透,于290nm~310nm和410nm~780nm两个波段均截止。

进一步地,所述基片为K9玻璃,所述(G(0.5HL0.5H)^sA)膜系是由复数高折射率膜层和低折射率膜层构成,所述高折射率膜层所用材料为Ta2O5,所述低折射率膜层所用材料为SiO2

本发明要解决的技术问题之二,在于提供一种紫外荧光滤光片的制备方法,能够有效地减少制备工艺偏差影响,利于批量生产。

本发明是这样实现上述技术问题之二的:

一种紫外荧光滤光片的制备方法,

所述紫外荧光滤光片可用于皮肤损伤检测,所述方法包括如下步骤:

步骤10、结合皮肤的光学性质得到皮肤荧光峰值对应的紫外光谱,并以此作为紫外荧光滤光片的指标;

步骤20、根据紫外荧光滤光片的指标选择基片材料、高折射率膜层以及低折射率膜层材料;

步骤30、根据紫外荧光滤光片的指标设计膜系结构和紫外荧光滤光片结构,并进行相应的仿真和优化,得到符合紫外荧光滤光片的指标的膜系;

步骤40、对所得的膜系进行容差分析;

步骤50、根据容差分析结果,选择相应的薄膜制备方法进行制备紫外荧光滤光片并进行相应的检测。

进一步地,所述紫外荧光滤光片的指标为于330nm~400nm高透,于290nm~310nm和410nm~780nm两个波段均截止。

进一步地,所述步骤20中,基片的材料为K9玻璃,所述高折射率膜层所用材料为Ta2O5,所述低折射率膜层所用材料为SiO2

进一步地,所述步骤30设计的膜系结构为(G(0.5HL0.5H)^sA)膜系,且所述(G(0.5HL0.5H)^sA)膜系于330nm~400nm高透,于290nm~310nm和410nm~780nm两个波段均截止。

进一步地,所述步骤40中的容差分析,是在TFC软件中进行的。

进一步地,所述步骤50中相应的薄膜制备方法为射频磁控溅射、电子束蒸发、离子束辅助镀膜、原子层外延或MOCVD。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华侨大学,未经华侨大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310450681.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top