[发明专利]一种优化光学临近修正拟合结果的方法

权利要求书

1.一种优化光学临近修正拟合结果的方法，包括：

在光学临近修正过程中对晶圆版图进行模拟以及对晶圆版图进行实际制备，然后通过公式（I）计算模拟晶圆版图中图案特征的关键尺寸和实际晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的均方根值RMS，以监控和优化光学临近修正过程中的模拟结果；

其中，所述W_i为所述图案特征关键尺寸的权重，CD_{i（模拟）}为所述模拟晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的测量值，所述CD_{i（测量）}为所述实际晶圆版图中所述图案特征的关键尺寸的测量值。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法包括：

步骤（1）根据目标晶圆版图建立光学临近修正模型，选用所述光学临近修正模型进行模拟，并测量不同所述图案特征的关键尺寸，得到CD_{i（模拟）}；

步骤（2）根据目标晶圆版图进行晶圆的实际生产，得到所述实际晶圆版图，测量与模拟过程中相对应的所述图案特征的关键尺寸，得到CD_{i（测量）}；

步骤（3）选用公式I对所述模拟结果进行评价，以使光学临近修正结果更加合理。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤（1）中通过考虑关键尺寸不同的所述图案特征的影响，来建立光学临近修正模型。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤（1）中根据关键尺寸的大小按比例来调整其在模型建立中的权重，来建立所述光学临近修正模型。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法以所述晶圆版图中关键尺寸最小的所述图案特征为标准点。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步骤（3）之前还进一步包括制定所述光学临近修正的质量标准。

7.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述步骤（3）中对所述模拟结果进行评价的方法为：

检验所述RMS是否在所述质量标准范围之内，若所述RMS在所述质量标准范围之内，则通过；若所述RMS在所述质量标准范围之外，则需要对光学临近修正模型进行修改，作进一步的模拟，至所述模拟结果符合所述质量标准要求为止。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图案特征为晶圆版图中的各种图案形状。