[发明专利]失调电流微调电路有效

专利信息
申请号: 201310463643.5 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN103715999B 公开(公告)日: 2017-12-12
发明(设计)人: M·格斯滕哈伯;R·詹森 申请(专利权)人: 美国亚德诺半导体公司
主分类号: H03F3/45 分类号: H03F3/45;G05F1/46
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 陈华成
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 失调 电流 微调 电路
【说明书】:

技术领域

所公开的技术涉及电子系统,并且更为具体地说,涉及被配置来减小失调电流的电路。

背景技术

电子系统可以包括被配置来比较两个或更多个信号的放大器,如差分放大器。如过程变化的变化可以导致放大器的输入级中的失调电压和/或失调电流。这些失调可以确定放大器的精度,或者确定放大器所能测量的最小信号。

对放大器的失调电压和失调电流进行微调以使这些失调接近于零可以是有利的。可以通过各种电路减小失调电压。即使失调电压被微调成接近于零,但是在某些应用中仍可能存在失调电流。然而,常规电路在对失调电压和失调电流进行独立微调的过程中已经遇到困难。因此,存在对减小失调电流的需要。

发明内容

本公开的一个方面是一种包括失调电流微调电路的装置。所述失调电流微调电路包括:第一双极型晶体管;第二双极型晶体管;第一辅助双极型晶体管,其具有与所述第一双极型晶体管的基极并联电气连接的基极;以及第二辅助双极型晶体管,其具有与所述第二双极型晶体管的基极并联电气连接的基极。所述失调电流微调电路还包括:第一辅助电流源,其被配置来偏置所述第一辅助双极型晶体管;以及第二辅助电流源,其被配置来偏置所述第二辅助双极型晶体管。所述第一辅助电流源和所述第二辅助电流源被配置来分别偏置所述第一辅助双极型晶体管和所述第二辅助双极型晶体管,以便补偿在所述第一双极型晶体管的所述基极处的电流与所述第二双极型晶体管的所述基极处的电流之间的失配。

本公开的另一方面是一种包括第一双极型晶体管、第二双极型晶体管、第三双极型晶体管以及第四双极型晶体管的装置。所述第一双极型晶体管具有第一集电极、被配置来接收第一输入信号的第一基极,以及第一发射极。所述第一双极型晶体管具有第一基极电流。所述第二双极型晶体管具有第二集电极、被配置来接收第二输入信号的第二基极,以及第二发射极。所述第二双极型晶体管具有第二基极电流。所述第三双极型晶体管具有第三集电极、与所述第一基极并联电气连接的第三基极,以及第三发射极。所述第三双极型晶体管具有第三基极电流。所述第四双极型晶体管具有第四集电极、与所述第二基极并联电气连接的第四基极,以及第四发射极。所述第四双极型晶体管具有第四基极电流。所述第一双极型晶体管、所述第二双极型晶体管、所述第三双极型晶体管以及所述第四双极型晶体管被配置来使得所述第三基极电流与所述第四基极电流之间的第一差值补偿所述第一基极电流与所述第二基极电流之间的第二差值。

本公开的又一方面是一种失调电流微调方法。所述方法包括:首先测量第一晶体管的基极与第二晶体管的基极之间的失调电压,并且将这种失调优选微调为零。任何剩余失调则应由于失调电流而产生。所述第一双极型晶体管和所述第二双极型晶体管是包括在放大器的输入级中。另外,所述方法包括:独立于所述第一晶体管的所述基极与所述第二晶体管的所述基极之间的失调电压,补偿所述第一双极型晶体管的基极电流与所述第二双极型晶体管的基极电流之间的失配。

为了对本公开进行概述,本文已描述本发明的某些方面、优点以及新颖特征。应理解,根据本发明的任何具体的实施方案未必可以实现所有此类优点。因此,本发明可通过某种方式来实施或进行,这种方式实现或者优化如本文所教导的一个优点或一组优点,而未必实现如本文所可能教导或提出的其它优点。

附图说明

图1是示出根据一个实施方案的放大器的示意图,所述放大器包括失调微调电路。

图2是示出根据另一实施方案的放大器的示意图,所述放大器包括失调微调电路。

具体实施方式

以下对某些实施方案的详细描述呈现对特定实施方案的各种描述。然而,本文所述的创新可以通过如权利要求书所界定并涵盖的众多不同方式实施。在本描述中,参照附图,其中类似参考数字指示相同或功能上相似的元件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美国亚德诺半导体公司,未经美国亚德诺半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310463643.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top