[发明专利]处理液供给方法、处理液供给装置和存储介质有效
申请号: | 201310467501.6 | 申请日: | 2013-10-09 |
公开(公告)号: | CN103706523A | 公开(公告)日: | 2014-04-09 |
发明(设计)人: | 吉田勇一;内藤亮一郎;古庄智伸 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | B05C11/10 | 分类号: | B05C11/10;B05C5/02;H01L21/027 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 供给 方法 装置 存储 介质 | ||
1.一种处理液供给方法,其特征在于,包括:
将处理液充满在新的过滤器部内的工序;
接着,为了从所述过滤器部除去气泡而使该过滤器部内成为作为负压气氛的第一压力气氛的工序;
之后,使所述过滤器部内从所述第一压力气氛升压以使得所述过滤器部内成为目标压力气氛的工序;
然后,在使所述过滤器部的二次侧成为比所述第一压力气氛高的第二压力气氛的状态下,从所述过滤器部的一次侧使处理液通过所述过滤器部的工序;和
将通过了所述过滤器部的处理液经由喷嘴供给至被处理体而进行液处理的工序。
2.如权利要求1所述的处理液供给方法,其特征在于:
所述第二压力气氛是其压力比所述目标压力气氛低并且比所述第一压力气氛高的负压气氛。
3.如权利要求2所述的处理液供给方法,其特征在于:
通过设置在所述过滤器部和所喷嘴之间的用于将处理液送至喷嘴的处理用的泵的减压动作,形成所述第一压力气氛。
4.如权利要求2所述的处理液供给方法,其特征在于:
所述第一压力气氛通过与将处理液送至喷嘴的处理用的泵不同的减压部而形成。
5.如权利要求1~4中任一项所述的处理液供给方法,其特征在于:
所述第一压力气氛的压力为-51kPa~-80kPa。
6.如权利要求1~5中任一项所述的处理液供给方法,其特征在于:
所述使过滤器部内升压为所述目标压力气氛的工序是使过滤器部内成为大气压气氛的工序。
7.如权利要求1~6中任一项所述的处理液供给方法,其特征在于:
在将所述处理液供给至被处理体进行了液处理之后,对该被处理体进行液处理的检查,在检查结果为不良时,再次进行从使过滤器部内成为第一压力气氛的工序至使过滤器部内成为第二压力气氛的工序的一系列的工序。
8.一种处理液供给装置,其特征在于:
所述处理液供给装置从上游侧开始依次设置有处理液供给源、过滤器部和喷嘴,用于从喷嘴对被处理体供给处理液而进行液处理,
所述处理液供给装置具备:
分别在所述过滤器部的一次侧、二次侧和排放口设置的一次侧阀、二次侧阀和排放阀;
用于对所述过滤器部内进行减压的减压部;和
控制所述阀和减压部的控制部,
所述控制部具备执行以下步骤的程序:
从所述一次侧供给处理液而使过滤器部内充满处理液的步骤;
使所述一次侧阀、二次侧阀和排放阀之中的至少一个为关闭状态,使其它的阀为打开状态,利用所述减压部使该过滤器部内成为作为负压气氛的第一压力气氛的步骤;
之后,使所述成为关闭状态的阀开放,使该过滤器部内从所述第一压力气氛开始升压,以使得所述过滤器部内成为目标压力气氛的步骤;和
然后,在使所述过滤器部的二次侧成为比所述第一压力气氛高的第二压力气氛的状态下,从所述过滤器部的一次侧使处理液通过所述过滤器部,经由所述喷嘴供给至被处理体而进行液处理的步骤。
9.如权利要求8所述的处理液供给装置,其特征在于:
在过滤器部和喷嘴之间设置有处理用的泵,
所述第二压力气氛是其压力比所述目标压力气氛低的负压气氛,通过利用该处理用的泵形成该第二压力气氛而进行所述过滤器部中的来自一次侧的液体流通。
10.如权利要求9所述的处理液供给装置,其特征在于:
所述处理用的泵兼用为所述减压部。
11.如权利要求9所述的处理液供给装置,其特征在于:
所述减压部与所述处理用的泵分别单独设置。
12.如权利要求8~11中任一项所述的处理液供给装置,其特征在于:
所述第一压力气氛的压力为-51kPa~-80kPa。
13.如权利要求8~12中任一项所述的处理液供给方法,其特征在于:
所述使过滤器部内升压为所述目标压力气氛的步骤是使过滤器部内成为大气压气氛的步骤。
14.一种存储计算机程序的存储介质,其特征在于:
所述计算机程序用于处理液供给装置,
所述处理液供给装置从上游侧开始依次设置有处理液供给源、过滤器部和喷嘴,用于从喷嘴对被处理体供给处理液而进行液处理,
所述计算机程序编有步骤组以实施权利要求1~7中任一项所述的处理液供给方法。
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