[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

在基板上形成包括位于GOA区对应信号线的区域的第一信号线电极的图形；

在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形，使所述第二信号线电极直接接触所述第一信号线电极以形成信号线。

2.如权利要求1所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述在基板上形成包括位于GOA区对应信号线的区域的第一信号线电极的图形具体包括：

在所述基板上形成导电薄膜，通过构图工艺在GOA区对应信号线的区域形成所述第一信号线电极的图形。

3.如权利要求1所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述在基板上形成包括位于GOA区对应信号线的区域的第一信号线电极的图形具体包括：

在所述基板上形成透明导电薄膜，通过构图工艺在所述基板对应的阵列基板的显示区域形成公共电极或像素电极的图形，同时在GOA区对应信号线的区域形成所述第一信号线电极的图形。

4.如权利要求1～3中任一项所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形具体包括：

在形成包括第一信号线电极的图形的基板上形成金属薄膜，通过构图工艺在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形。

5.如权利要求1～3中任一项所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形具体包括：

在形成包括第一信号线电极的图形的基板上形成栅金属薄膜，通过构图工艺形成包括栅线和栅极的图形，同时在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形。

6.如权利要求1～3中任一项所述的阵列基板制作方法，其特征在于，所述在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形具体包括：

在形成包括第一信号线电极的图形的基板上形成源漏金属薄膜，通过构图工艺形成包括源极、漏极和数据线的图形，同时在所述第一信号线电极图形之上形成包括第二信号线电极的图形。

7.一种阵列基板，包括位于GOA区的信号线，其特征在于，所述信号线包括：位于基板上的第一信号线电极及位于所述第一信号线电极之上的第二信号线电极，第一信号线电极和第二信号线电极直接接触，共同形成信号线。

8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第一信号线电极与所述阵列基板上的公共电极或像素电极为同种电极材料，且同时形成。

9.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第二信号线电极为金属电极。

10.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第二信号线电极与所述阵列基板上的栅线为同种金属材料，且同时形成。

11.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述第二信号线电极与所述阵列基板上的数据线为同种金属材料，且同时形成。

12.一种显示装置，包括如权利要求7～11中任一项所述的阵列基板。