[发明专利]抗蚀剂剥离液的调和方法和调和装置

说明书

本发明提供抗蚀剂剥离液的调和方法和调和装置。该调和方法的特征在于具备如下工序：向溶剂槽中称量再生液导入量的抗蚀剂剥离再生液的工序；计测前述溶剂槽中的第一溶剂的浓度的工序；算出第二溶剂的浓度的工序；从规定量和前述再生液导入量和前述第一溶剂的浓度算出第一溶剂追加投入量的工序；从前述规定量和前述再生液导入量和前述第二溶剂的浓度算出第二溶剂追加投入量的工序；向前述溶剂槽中投入前述第一溶剂追加投入量的前述第一溶剂和前述第二溶剂追加投入量的前述第二溶剂，从而得到调和溶剂的工序；边向调和槽中供给预定重量的纯水边称量的工序；以及将前述调和溶剂从前述溶剂槽输送至前述调和槽，从而得到抗蚀剂剥离液的工序。

技术领域

本发明涉及从已使用的抗蚀剂剥离液中分离溶剂成分、并将制成了抗蚀剂剥离再生液的溶液再次调和成抗蚀剂剥离液时的调和方法和调和装置。

背景技术

在半导体、液晶显示器、有机和无机EL显示器的制造中，多用到光刻技术。此处，在基板上形成材料薄膜，并在其上用抗蚀剂形成图案。并且按照该抗蚀图案进行蚀刻处理，对材料薄膜形成期望的图案。并且，最后剥离残留的抗蚀剂。

抗蚀剂为具有感光性的树脂材料，例如适合地利用酚醛清漆树脂等。因此，为了剥离抗蚀剂而使用以溶剂为基体的剥离剂。例如可使用单乙醇胺和二甲基亚砜的混合物、丙二醇单甲醚乙酸酯和丙二醇单甲醚的混合物即所谓的稀释剂等；以及包含多种溶剂成分和水分的水系剥离液。

这些溶剂被大量使用，断然不会便宜。另外，由于其不是无毒的有机溶剂，因此无法直接向环境中排放。另外，从资源再利用的观点出发，分离成各溶剂成分而进行资源再利用是最有效的处理方法，但分离/精制至个别溶剂能够再利用为止从成本方面来看不是实用的处理方法。一般来说，将已使用的剥离液用作助燃剂的情况较多，但由于剥离液有时还含有水分并大量使用，因此通过燃烧来使其分解也耗费成本。

因此，将已使用的抗蚀剂剥离液回收并气化分离，从而进行再使用。专利文献1中公开了这种溶剂的再生方法。专利文献1的再生方法中，从已使用的抗蚀剂剥离液中首先去除树脂成分，接着蒸发去除低沸点杂质。并且，将该残留液蒸馏，使溶剂成分蒸发，从而以冷凝液的形式回收。

另一方面，专利文献2中公开了一种化学溶液处理装置，其特征在于，在调和用于洗涤半导体晶圆的化学溶液时，调和槽设置有用于计测该调和槽内的化学溶液量的液量计测单元和具有开关阀的排水管，前述液量计测单元和前述开关阀连接有液量控制单元，所述液量控制单元基于用前述液量计测单元计测的前述调和槽内的化学溶液量来进行前述开关阀的操作。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2002-014475号公报（日本专利第3409028号）

专利文献2：日本特开平7-326600号公报（日本专利第3203958号）

发明内容

发明要解决的问题

抗蚀剂剥离液由水、多种溶剂和添加剂构成时，能够从已使用的抗蚀剂剥离液中分离水、抗蚀剂成分和添加剂。换言之，抗蚀剂剥离再生液是提取出抗蚀剂剥离液中的溶剂成分而成的液体。然而，所提取的溶剂成分中的各溶剂的组成比偏离原本的抗蚀剂剥离液。

因此，使用抗蚀剂剥离再生液再次调和抗蚀剂剥离液是指：使用组成比不明确的多种溶剂成分的混合物，调和具有预定组成比的抗蚀剂剥离液。

为了调整各溶剂成分的组成比，需要计测组成比。然而，溶剂成分的组成比的偏离并非总是按照一定的比例出现的。因此，连续地调整组成比是不可能的，必须分成预定量的批次计测组成比来进行调整。于是，可以考虑例如针对整批进行取样、检查、合格判定之类的依次处理即实验室测试。