[发明专利]沉积装置以及使用其的有机发光显示装置的制造方法有效
申请号: | 201310476160.9 | 申请日: | 2013-10-12 |
公开(公告)号: | CN103726030B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 白大源 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L51/56 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 余朦;王艳春 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 装置 以及 使用 有机 发光 显示装置 制造 方法 | ||
1.一种沉积装置,包括:
沉积源,用于容纳沉积物质;以及
多个喷嘴,沿着第一方向排列在所述沉积源的一侧,并且用于将所述沉积物质喷射到相对的基板上,
在所述第一方向上,所述沉积源被划分为中心区域以及位于所述中心区域两端的外围区域,
所述沉积装置还包括:喷嘴顶部,以可拆卸的方式形成于排列在各个所述外围区域上的所述喷嘴上,
所述喷嘴顶部的用于喷射所述沉积物质的末端面沿着所述第一方向与所述基板的表面构成倾斜角,并朝向所述沉积源的外侧方向,
其中,所述基板沿着所述第一方向的中心与所述沉积源沿着所述第一方向的中心对准,
所述沉积源的所述中心区域沿着所述第一方向具有满足下述条件的长度,
其中,L1为所述中心区域沿着所述第一方向的长度,L2为所述基板的沉积区域沿着所述第一方向的长度,T为所述基板与所述喷嘴的末端之间的距离,θ为所述倾斜角。
2.如权利要求1所述的沉积装置,其中,
所述倾斜角的范围为43度至53度。
3.如权利要求1所述的沉积装置,其中,
所述倾斜角的范围为25度至35度。
4.如权利要求1所述的沉积装置,其中,
安装到排列在各个所述外围区域上的所述喷嘴上的所述喷嘴顶部在所述第一方向上以所述沉积源的中心为基准对称。
5.一种有机发光显示装置的制造方法,包括:
准备包括用于容纳沉积物质的沉积源,以及沿着第一方向排列在沉积源的一侧并且用于将所述沉积物质喷射到基板上的多个喷嘴的沉积装置;
将所述喷嘴布置成与基板相对;以及
沿着与所述第一方向垂直的第二方向移动所述沉积源并通过所述喷嘴喷射所述沉积物质,
其中所述沉积源在所述第一方向上被划分为中心区域以及位于所述中心区域两端的外围区域,并且还包括以可拆卸的方式形成在各个所述外围区域上排列的所述喷嘴上的喷嘴顶部,所述喷嘴顶部用于喷射所述沉积物质的末端面沿着所述第一方向与所述基板的表面构成倾斜角,并朝向所述沉积源的外侧方向,
其中,所述基板沿着所述中心区域的中心与所述沉积源沿着所述第一方向的中心对准,
所述中心区域沿着第一方向具有满足下述条件的长度,
其中,L1为所述中心区域沿着所述第一方向的长度,L2为所述基板的沉积区域沿着所述第一方向的长度,T为所述基板与所述喷嘴的末端之间的距离,θ为所述倾斜角。
6.如权利要求5所述的有机发光显示装置的制造方法,其中,
所述倾斜角的范围为43度至53度。
7.如权利要求5所述的有机发光显示装置的制造方法,其中,
所述倾斜角的范围为25度至35度。
8.如权利要求5所述的有机发光显示装置的制造方法,其中,
安装到在各个所述外围区域上排列的所述喷嘴上的所述喷嘴顶部在所述第一方向上以所述沉积源的中心为基准对称。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的