[发明专利]基板保持装置、具备其之曝光装置、方法

权利要求书

1.一种基板保持装置，能相对透过投影光学系统所照射的曝光用光，保持基板并移动，其特征在于，该基板保持装置具备：

保持部，保持该基板；

平坦部，设置成包围该保持部；以及

回收部，用以回收已渗入形成于被保持在该保持部的该基板与该平坦部之间的间隙的该液体；

该回收部包含多孔体或网构件、及渗入该间隙且经由该多孔体或该网构件的该液体流动的流路。

2.如权利要求1所述的基板保持装置，其中，该多孔体设置在该流路途中。

3.一种基板保持装置，能相对透过投影光学系统所照射的曝光用光，保持基板并移动，其特征在于，该基板保持装置具备：

保持部，保持该基板；

平坦部，设置成包围该保持部；以及

回收部，用以回收已渗入形成于被保持在该保持部的该基板与该平坦部之间的间隙的该液体；

该回收部包含流路、透过该流路吸引该液体的吸引装置、配置于该流路途中以防止该液体往该吸引装置流入的构件。

4.如权利要求3所述的基板保持装置，其中，防止该液体流入的构件，包含多孔体、网构件、气液分离器或缓冲空间。

5.如权利要求1所述的基板保持装置，其中，该流路的口设置在该平坦部的下方。

6.如权利要求1所述的基板保持装置，其具备：

板构件，包含该平坦部；以及

板保持部，以该保持部所保持的该基板被该板构件包围的方式保持该板构件；

该流路的口设置在被保持在该板保持部的该板构件的背面侧。

7.如权利要求6所述的基板保持装置，其中，该流路的口设置在该板保持部的内部。

8.一种曝光装置，其特征在于：

具备权利要求1至7中任一项所述的基板保持装置。

9.一种组件制造方法，其特征在于：

使用如权利要求8所述的曝光装置。

10.一种液体回收方法，从基板保持装置回收液体，该基板保持装置能相对透过投影光学系统所照射的曝光用光，保持基板并移动，其特征在于：

包含透过多孔体或网构件回收已渗入被保持在该基板保持装置具备的保持部的该基板与以包围该保持部的方式设置在该基板保持装置的平坦部之间的间隙的该液体的动作。

11.如权利要求10所述的液体回收方法，其包含透过流路回收经由该多孔体或该网构件的该液体的动作。

12.如权利要求11所述的液体回收方法，其包含将该多孔体或该网构件设置在该液体的途中的动作。

13.如权利要求11所述的液体回收方法，其中，该流路的口设置在该平坦部的下方。

14.一种曝光装置，透过投影光学系统与液体使基板曝光，其特征在于：

具备载台，该载台具有保持该基板的基板保持部，可相对该投影光学系统移动；

该载台包含已渗入被保持在该基板保持部的该基板与该基板保持部周围的载台上面之间的间隙的该液体的回收部；

该回收部包含多孔体或网构件、及回收渗入该间隙且经由该多孔体或该网构件的该液体的流路。

15.如权利要求14所述的曝光装置，其中，该载台具有包含该载台上面且设成可拆装的板构件、及保持该板构件的板保持部；

该流路的回收口设在该板保持部所保持的该板构件的背面侧。

16.如权利要求15所述的曝光装置，其中，该多孔体或网构件设在该板保持部所保持的该板构件的背面侧。

17.如权利要求15所述的曝光装置，其中，该流路的该回收口设在该板保持部的内部。

18.如权利要求16所述的曝光装置，其中，该多孔体或网构件设在该板保持部的内部。

19.如权利要求14所述的曝光装置，其中，该多孔体或网构件设在该流路的途中。

20.如权利要求14所述的曝光装置，其中，该基板保持部包含支撑该基板的支撑部、设在该支撑部周围的壁部、及以可吸引该壁部内侧的空间内的气体的方式连接于该内侧的空间的气体流路，将该支撑部所支撑的该基板在该内侧的空间内的气体透过该气体流路被吸引而该内侧的空间成为负压之状态下保持。