[发明专利]一种激光切割硅片的方法无效

专利信息
申请号: 201310489125.0 申请日: 2013-10-18
公开(公告)号: CN103586587A 公开(公告)日: 2014-02-19
发明(设计)人: 乔金彪 申请(专利权)人: 苏州斯尔特微电子有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/142;B23K26/146;B23K26/60;B23K26/70
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 215153 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 激光 切割 硅片 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种激光切割硅片的方法。 

背景技术

地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一,对太阳能光伏电池这样注定要进入大规模市场的产品而言,储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一。硅片切割是太阳能光伏电池制造工艺中的关键部分。目前,在切割硅片时,硅片激光切割机利用高能激光束照射在硅片表面,使被照射区域局部熔化、气化、从而达到划片切割的目的。因激光是经专用光学系统聚焦后成为一个非常小的光点,能量密度高,因其加工是非接触式的,对硅片本身无机械冲压力,硅片不易变形。热影响极小,划片切割精度高,但在切割的过程中会产生大量的硅粉,这些硅粉残留在硅片上会对硅片造成污染,在后续的加工过程中还需要额外的工序来清洁处理,影响工作效率。 

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中存在的不足,提供一种激光切割硅片的方法,在切割的过程中对切割产生的硅粉及时清理掉,切割完成后无需对硅片进行清洁,提高工作效率。 

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现: 

一种激光切割硅片的方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1:将硅片贴在蓝膜上;

S2:贴片后进行烘烤加强蓝膜和硅片的牢固度,制得待切割工件;

S3:将待切割工件固定在硅片激光切割机上进行切割,同时切割刀旁边的喷嘴向切割点区域喷射冷却水和工业清洗剂,制得干净的硅片。

优选的,工业清洗剂中还包括工业润滑剂,由于贴片后进行烘烤,增强了蓝膜和硅片的牢固度,防止切割过程中硅片和蓝膜的脱落,另外在切割的同时还喷射冷却水和工业清洗剂,可以及时清理掉切割时产生的颗粒残留、硅粉,制得干净的硅片,后续步骤中无需对硅片进行清理操作,提高了工作效率。 

本发明的有益效果是:防止切割过程中硅片和蓝膜的脱落,加强润滑度,提供最佳冷却效果,清除切割时产生的颗粒残留、硅粉,制得干净的硅片,后续步骤中无需对硅片进行清理操作,提高了工作效率。 

具体实施方式

下面结合具体的实施例对本发明技术方案作进一步的详细描述,以使本领域的技术人员可以更好的理解本发明并能予以实施,但所举实施例不作为对本发明的限定。 

一种激光切割硅片的方法,包括以下步骤: 

S1:将硅片贴在蓝膜上;

S2:贴片后进行烘烤加强蓝膜和硅片的牢固度,制得待切割工件;

S3:将待切割工件固定在硅片激光切割机上进行切割,同时切割刀旁边的喷嘴向切割点区域喷射冷却水和工业清洗剂,制得干净的硅片。其中硅片厚度在200-400微米之间。

优选的,在步骤S3中,工业清洗剂中还包括工业润滑剂,可以加强润滑度。 

优选的,在步骤S1和S2之间还包括步骤S4:检查硅片和蓝膜之间是否有气泡,如果没有气泡,进入步骤S2,如果有气泡,还需要重新挤掉气泡后方可进入步骤S2中。 

由于贴片后进行烘烤,增强了蓝膜和硅片的牢固度,防止切割过程中硅片和蓝膜的脱落,另外在切割的同时还喷射冷却水和工业清洗剂,可以及时清理掉切割时产生的颗粒残留、硅粉,制得干净的硅片,后续步骤中无需对硅片进行清理操作,提高了工作效率。 

以上仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或者等效流程变换,或者直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。 

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