[发明专利]3D标测图和荧光镜图像之间的整合

权利要求书

1.一种坐标系统配准模块，包括：

射线不可透的元件，其以固定的预定模式布置并且被配置成响应于所述射线不可透的元件产生荧光镜图像来限定所述坐标系统配准模块在荧光镜坐标系统中的位置；和

一个或多个连接部，其被配置成相对于磁场传输垫以预定的位置和取向将所述坐标系统配准模块固定地连接至所述磁场传输垫，以便使得所述坐标系统配准模块在由所述磁场传输垫限定的磁坐标系统中的位置特征化。

2.根据权利要求1所述的坐标系统配准模块，其中所述坐标系统配准模块包括限定对称线的一对平行板，并且其中所述射线不可透的元件包括围绕所述对称线对称地分布的多个射线不可透的标记物。

3.根据权利要求1所述的坐标系统配准模块，其中所述坐标系统配准模块包括限定对称线的一对平行板，并且其中所述射线不可透的元件包括射线不可透的预定二维形状，所述预定二维形状中心位于所述对称线上并且与其正交。

4.根据权利要求3所述的坐标系统配准模块，其中所述预定二维形状选自包含圆盘和矩形的组。

5.一种用于配准坐标系统的方法，包括：

以固定的预定模式将射线不可透的元件布置在坐标系统配准模块内；

产生所述射线不可透的元件的荧光镜图像；

响应于所述荧光镜图像来评价所述坐标系统配准模块在荧光镜坐标系统中的荧光镜位置；

相对于磁场传输垫以预定的位置和取向将所述坐标系统配准模块固定地连接至所述磁场传输垫，以便使得所述坐标系统配准模块在由所述磁场传输垫限定的磁坐标系统中的磁位置特征化；以及

通过使所述坐标系统配准模块的荧光镜位置与所述坐标系统配准模块的磁位置相等来使所述磁坐标系统与所述荧光镜坐标系统配准。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述坐标系统配准模块包括限定对称线的一对平行板，并且其中所述射线不可透的元件包括围绕所述对称线对称地分布的多个射线不可透的标记物。

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述坐标系统配准模块包括限定对称线的一对平行板，并且其中所述射线不可透的元件包括射线不可透的预定二维形状，所述预定二维形状中心位于所述对称线上并且与其正交。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述预定二维形状选自包含圆盘和矩形的组。

9.根据权利要求5所述的方法，其中配准所述坐标系统包括产生将所述荧光镜坐标系统与坐标系统配准模块坐标系统相关的第一转换、和将所述坐标系统配准模块坐标系统与所述磁坐标系统相关的第二转换，以及产生包括所述第一转换和第二转换的组合的复合转换。

10.根据权利要求9所述的方法，其中配准所述坐标系统包括更新所述复合转换，并且其中更新所述复合转换包括响应于所述坐标系统的配准的变化来更新所述第一转换，同时保持所述第二转换不变。

11.根据权利要求5所述的方法，包括：

将具有另外的射线不可透的元件的校准元件定位在台上，所述台由产生荧光镜图像的荧光镜辐照；

产生所述校准元件的另外的荧光镜图像；以及

响应于所述另外的荧光镜图像来校准所述台的运动。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述校准元件包括直尺，所述直尺相对于所述台以已知角度设置。

13.根据权利要求5所述的方法，包括产生目标在所述磁坐标系统中的三维标测图，以及产生二维荧光镜图像，所述二维荧光镜图像包括所述荧光镜坐标系统中的所述目标，以及响应于使所述荧光镜坐标系统与所述磁坐标系统配准来相对于所述三维标测图对齐和定位所述二维荧光镜图像。