[发明专利]沉积设备及利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法

权利要求书

1.一种沉积设备，所述沉积设备包括：

腔体；

基底放置单元，位于所述腔体中，并且将基底放置在基底放置单元上；以及

溅射单元，用于在基底上形成薄膜，

其中，溅射单元包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元，

第一靶材单元和第二靶材单元被分别构造为安装一对靶材，以及

第一靶材单元和第二靶材单元被构造为允许氩气直接注入到所述一对靶材之间。

2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，溅射单元还包括：

第一侧部和第二侧部，彼此面对并接触第一靶材单元和第二靶材单元的角部；以及

下表面部，在与第一靶材单元、第二靶材单元、第一侧部和第二侧部交叉的方向上延伸，

氩气是通过在第一侧部、第二侧部和下表面部的至少一个中形成的进气孔注入的。

3.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，第一靶材单元包括用于冷却安装在第一靶材单元上的靶材的第一冷却水流动路径，

第二靶材单元包括用于冷却安装在第二靶材单元上的靶材的第二冷却水流动路径，

其中，第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径彼此分开以使冷却水独立地循环。

4.根据权利要求3所述的沉积设备，其中，第三冷却水流动路径形成在第一侧部中，

第四冷却水流动路径形成在第二侧部中，以及

第五冷却水流动路径形成在下表面部中。

5.根据权利要求4所述的沉积设备，其中，第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径彼此连接，并且第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径被构造为独立于第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径使冷却水循环。

6.根据权利要求4所述的沉积设备，其中，第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径中的一个连接到第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径中的一个，并且第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径中的另两个冷却水流动路径连接到第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径中的另一个冷却水流动路径。

7.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，第一靶材单元和第二靶材单元中的每个还包括在其靶材后侧的磁场产生器，

其中，第一靶材单元的磁场产生器和第二靶材单元的磁场产生器被设置成使得它们的磁极彼此相对。

8.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，溅射单元位于腔体的外部。

9.根据权利要求2所述的沉积设备，其中，所述一对靶材包含低液相线温度材料。

10.根据权利要求9所述的沉积设备，其中，低液相线温度材料包括从由锡氟磷酸盐玻璃、硫属化合物玻璃、亚碲酸盐玻璃、硼酸盐玻璃和磷酸盐玻璃组成的组中选择的至少一种。

11.一种沉积设备，所述沉积设备包括：

腔体；

基底放置单元，位于所述腔体中，并且将基底放置在基底放置单元上；以及

溅射单元，用于在基底上形成薄膜，

其中，溅射单元具有上端开口的长方体形状，并且包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元，

第一靶材单元和第二靶材单元被分别构造为安装一对靶材，以及

第一靶材单元和第二靶材单元被构造为使氩气被直接注入到所述一对靶材之间。

12.根据权利要求11所述的沉积设备，其中，所述一对靶材包含低液相线温度材料，低液相线温度材料包括从由锡氟磷酸盐玻璃、硫属化合物玻璃、亚碲酸盐玻璃、硼酸盐玻璃和磷酸盐玻璃组成的组中选择的至少一种。

13.根据权利要求11所述的沉积设备，其中，所述溅射单元还包括：

第一侧部和第二侧部，彼此面对并且接触第一靶材单元和第二靶材单元的角部；以及

下表面部，沿着与第一靶材单元、第二靶材单元、第一侧部和第二侧部交叉的方向延伸，

氩气是通过在第一侧部、第二侧部和下表面部的至少一个中形成的进气孔注入的。