[发明专利]沉积设备及利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法在审
申请号: | 201310498599.1 | 申请日: | 2013-10-22 |
公开(公告)号: | CN103981494A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 崔修赫 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;刘奕晴 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 设备 利用 制造 有机 发光 显示 方法 | ||
本申请要求于2013年2月12日在韩国知识产权局提交的第10-2013-0014976号韩国专利申请的优先权和权益,该申请的内容通过参考被全部包含于此。
技术领域
本发明的一个或多个方面涉及一种沉积设备及一种利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法。
背景技术
有机发光显示设备是包括空穴注入电极、电子注入电极和形成在它们之间并且包括有机发射层的有机发光二极管(OLED)的自发射显示设备。在有机发光显示设备中,当通过空穴注入电极注入的空穴和通过电子注入电极注入的电子在有机发射层结合时产生的激子从激发态变为基态,此时产生光。
作为自发射显示设备的有机发光显示设备不需要额外的光源,因此可以以低电压驱动并且制造得轻且薄,并具有诸如宽视角、高对比度和快速响应速度的高性能。因此,有机发光显示设备作为下一代显示设备已经受到关注。然而,由于有机发光显示设备的性能可能会因为外界的湿气和氧而退化,所以应该将OLED密封以保护使其免于外界的湿气或氧等。
近来,为了制造薄膜和/或柔性有机发光显示设备,已经使用薄膜包封层来密封OLED。溅射可以被用作形成这种薄膜包封层的方法。
溅射是在制造薄膜晶体管(TFT)液晶显示器(LCD)、诸如有机场致发光显示设备的平板显示设备或者各种电子装置期间在膜形成工艺中使用的代表性方法,并且以宽的应用范围的干法工艺技术著称。然而,当使用溅射时,由于在靶材和带电荷粒子之间的连续碰撞而使靶材的温度升高,从而阻碍了膜持续地形成。另外,由于从腔体的外部引入诸如氩气的惰性气体,因此会使少量的氩气渗透到薄膜中,从而使所形成的薄膜的性能退化。
发明内容
本发明实施例的多个方面涉及一种具有改善的沉积效率的沉积设备以及一种利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法。本发明实施例的多个方面还涉及包括具有彼此面对的一对靶材的溅射单元的沉积设备以及一种利用该沉积设备制造有机发光显示设备的方法。
根据本发明的实施例,提供一种沉积设备,包括:腔体;基底放置单元,位于所述腔体中并且将要在其上放置基底;以及溅射单元,用于在基底上形成薄膜。溅射单元包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元。第一靶材单元和第二靶材单元分别被构造为安装一对靶材。第一靶材单元和第二靶材单元被构造为允许氩气直接注入到所述一对靶材之间。
溅射单元还可以包括:第一侧部和第二侧部,彼此面对并接触第一靶材单元和第二靶材单元的角部;以及下表面部,在与第一靶材单元、第二靶材单元、第一侧部和第二侧部交叉(即,垂直)的方向上延伸。可以通过在第一侧部、第二侧部和下表面部的至少一个中形成的进气孔注入氩气。
第一靶材单元可以包括用于冷却安装在第一靶材单元上的靶材的第一冷却水流动路径。第二靶材单元可以包括用于冷却安装在第二靶材单元上的靶材的第二冷却水流动路径。第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径可以彼此分开,以使冷却水独立地循环。
第三冷却水流动路径可以形成在第一侧部中,第四冷却水流动路径可以形成在第二侧部中,第五冷却水流动路径可以形成在下表面部中。
第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径可以彼此连接,并且第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径被构造为独立于第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径使冷却水循环。
第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径中的一个可以连接到第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径中的一个,第三冷却水流动路径至第五冷却水流动路径中的另两个冷却水流动路径可以连接到第一冷却水流动路径和第二冷却水流动路径中的另一个冷却水流动路径。
第一靶材单元和第二靶材单元中的每个还可以包括在其靶材后侧的磁场产生器。第一靶材单元的磁场产生器和第二靶材单元的磁场产生器可以被设置成使得它们的磁极彼此相对。
溅射单元可以位于腔体的外部。
一对靶材可以包含低液相线温度材料。
低液相线温度材料可以包括从由锡氟磷酸盐玻璃、硫属化合物玻璃、亚碲酸盐玻璃、硼酸盐玻璃和磷酸盐玻璃组成的组中选择的至少一种。
根据本发明的另一个实施例,提供一种沉积设备,所述沉积设备包括:腔体;基底放置单元,位于所述腔体中并在其上放置基底;以及溅射单元,用于在基底上形成薄膜。溅射单元可以具有其上端开口的长方体形状,并且可以包括第一靶材单元和面对第一靶材单元的第二靶材单元。第一靶材单元和第二靶材单元被分别构造为安装一对靶材。第一靶材单元和第二靶材单元被构造为允许氩气被直接注入到所述一对靶材之间。
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