[发明专利]补偿密度的方法和执行该方法的成像设备有效
申请号: | 201310507589.X | 申请日: | 2013-10-24 |
公开(公告)号: | CN103777505B | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 朴殷锡;吴宗哲 | 申请(专利权)人: | 爱思打印解决方案有限公司 |
主分类号: | G03G15/16 | 分类号: | G03G15/16;G03G15/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 韩明星,鲁恭诚 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 补偿 密度 方法 执行 成像 设备 | ||
1.一种成像设备,包括:
转印单元,被构造为将形成在感光体上的图像转印到转印介质;
电源单元,被构造为向转印单元提供转印功率;
密度传感器单元,被构造为感测转印到转印介质的图像的密度;
参考反射板,与密度传感器单元分离,被构造为由密度传感器单元感测;和
控制单元,被构造为控制电源单元,以使得调整提供给转印单元的转印功率,
其中,所述密度传感器单元被允许从用于感测形成在转印介质上的样本碎片的密度的第一位置移动到用于感测参考反射板的密度的第二位置,
控制单元执行根据由密度传感器单元在第二位置感测的参考反射板的密度来补偿密度传感器单元的感测值的传感器补偿模式,并执行根据由密度传感器单元在第一位置感测的样本碎片的密度来调整提供给转印单元的转印功率的密度补偿模式,以由此补偿转印到转印介质的图像的密度,
其中,所述控制单元包括:
传感器补偿单元,被构造为将由密度传感器单元在第二位置感测的参考反射板的密度与参考值进行比较并计算补偿变量;和
密度补偿单元,被构造为通过将计算的补偿变量应用于由密度传感器单元在第一位置感测的样本碎片的密度来执行密度补偿。
2.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述密度传感器单元相对于设置在密度传感器单元的一侧的铰链旋转,以从第一位置移动到第二位置。
3.如权利要求1所述的成像设备,其中,当密度传感器单元位于第一位置时的密度传感器单元和转印介质之间的距离与当密度传感器单元位于第二位置时的密度传感器单元和参考反射板之间的距离相等。
4.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元通过使用将补偿变量应用于样本碎片的密度而获得的值来产生图像曲线,并控制电源单元,以使得根据将图像曲线的斜率与预定参考斜率进行比较的结果调整转印功率。
5.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述传感器补偿单元通过将所述参考值除以感测的参考反射板的密度来计算补偿变量,
密度补偿单元通过使用将感测的样本碎片的密度乘以补偿变量而获得的值来执行密度补偿。
6.如权利要求1所述的成像设备,还包括:存储单元,被构造为存储补偿变量,其中,当由传感器补偿单元计算的补偿变量与存储单元中存储的补偿变量不匹配时,存储单元中存储的补偿变量被更新。
7.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元在执行打印数据被打印的打印模式的同时执行传感器补偿模式。
8.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述控制单元正好在执行密度补偿模式之前执行传感器补偿模式。
9.如权利要求1所述的成像设备,其中,所述参考反射板具有芒塞尔色系的N3.5或更大的亮度。
10.一种用于成像设备的补偿密度的方法,所述方法包括:
执行补偿密度传感器单元的感测值的传感器补偿模式;以及
执行根据通过使用密度传感器单元感测形成在转印介质上的样本碎片的密度的结果补偿形成在转印介质上的图像的密度的密度补偿模式,
其中,所述密度传感器单元在执行密度补偿模式时位于用于感测形成在转印介质上的样本碎片的密度的第一位置,并且在执行传感器补偿模式时位于用于感测参考反射板的密度的第二位置,
其中,所述方法还包括:
将由密度传感器单元在第二位置感测的参考反射板的密度与参考值进行比较并计算补偿变量;和
通过将计算的补偿变量应用于由密度传感器单元在第一位置感测的样本碎片的密度来执行密度补偿。
11.如权利要求10所述的方法,其中,所述密度传感器单元相对于设置在密度传感器单元的一侧的铰链旋转,以从第一位置移动到第二位置。
12.如权利要求10所述的方法,其中,当密度传感器单元位于第一位置时的密度传感器单元和转印介质之间的距离与当密度传感器单元位于第二位置时的密度传感器单元和参考反射板之间的距离相等。
13.如权利要求10所述的方法,其中,所述执行传感器补偿模式的步骤包括:
使密度传感器单元从第一位置移动到第二位置;
感测参考反射板的密度;以及
将感测的参考反射板的密度与参考值进行比较,以计算补偿变量。
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