[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板及显示装置无效

专利信息
申请号: 201310521750.9 申请日: 2013-10-29
公开(公告)号: CN103529605A 公开(公告)日: 2014-01-22
发明(设计)人: 吴洪江;黄常刚;袁剑峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

第一基板及形成于所述第一基板上的公共电极层和公共电极线,所述公共电极层与所述公共电极线连接;其中,所述第一基板包括:像素区域及位于所述像素区域四周的非像素区域,所述公共电极层覆盖所述第一基板的整个像素区域,所述公共电极线位于所述第一基板的非像素区域内。

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述公共电极线呈口字型,分布于所述公共电极层的四周。

3.如权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述公共电极层的外侧边缘的第一部分位于所述第一基板的非像素区域内,所述公共电极层的外侧边缘的第一部分与所述公共电极线的内侧边缘的第一部分重叠。

4.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述公共电极层的膜厚为600~2000埃。

5.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括:

形成于所述公共电极层上的第一绝缘层;及

形成于所述第一绝缘层上的栅极扫描线;

其中,所述第一绝缘层的尺寸等于或大于所述栅极扫描线的尺寸。

6.如权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,还包括:

形成于所述栅极扫描线上的第二绝缘层;

形成于所述第二绝缘层上的有源层;

形成于所述有源层上的源/漏电极线;

形成于所述源/漏电极线上的保护层;及

形成于所述保护层上的像素电极。

7.一种显示面板,其特征在于,包括彩膜基板及如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。

8.如权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜基板包括:第二基板及依次形成于所述第二基板上的黑矩阵、彩色滤光片及透明电极层。

9.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求7或8所述的显示面板。

10.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供一第一基板,所述第一基板包括:像素区域及位于所述像素区域四周的非像素区域;

形成覆盖于所述第一基板的整个像素区域的公共电极层;

在所述第一基板的非像素区域内形成公共电极线,所述公共电极线与所述公共电极层连接;

在所述公共电极层上形成第一绝缘层;

在所述第一绝缘层上形成栅极扫描线;

在所述栅极扫描线上形成第二绝缘层;

在所述第二绝缘层上形成有源层;

在所述有源层上形成源/漏电极线;

在所述源/漏电极线上形成保护层;及

在所述保护层上形成像素电极。

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