[发明专利]利用统计定时对多图案变化性建模

权利要求书

1.一种用于对多图案变化性建模的方法，所述方法，包括：

定义集成电路设计中的变化的至少一个来源；

将所述集成电路设计的至少一个级别中的至少两个图案的变化的至少一个来源分别建模为变化性的至少两个来源；

查询与所述集成电路设计的至少一个级别的变化的至少一个来源相关联的制造测量；以及

基于所述制造测量，定义修改用于所述集成电路设计的至少一个级别的变化的至少一个来源的偏移和缩放因子，其中，所述建模包括：使用所述偏移和缩放因子，对变化性的至少两个来源建模。

2.如权利要求1所述的方法，还包括：

基于所述制造测量，定义所述集成电路设计的至少一个级别的相关系数，

其中，所述建模包括：使用所述相关系数，对变化性的至少两个来源建模。

3.如权利要求2所述的方法，还包括：

提取寄生参数；以及

使用变化性的至少两个来源的模型和寄生参数，执行所述集成电路设计的统计静态定时分析SSTA。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述寄生参数是颜色感知的寄生参数。

5.如权利要求1所述的方法，其中，变化性的至少两个来源各自包括变化的至少一个来源的平均分布、对变化的至少一个来源的全局分布的敏感度、对变化的至少一个来源的空间分布的敏感度、以及对变化的至少一个来源的随机分布的敏感度。

6.如权利要求1所述的方法，其中，通过至少两个不同的光掩模来创建至少两个图案。

7.如权利要求1所述的方法，还包括：生成包括变化性的至少两个来源的报告。

8.一种用于优化集成电路的设计布局的方法，该方法包括：

查询与集成电路设计的至少一个级别中的至少两个图案的变化的至少一个来源相关联的制造测量；

定义集成电路设计中的变化的至少一个来源；

将所述集成电路设计的至少一个级别中的至少两个图案的变化的至少一个来源分别建模为变化性的至少两个来源；

从所述制造测量确定分布是否已基于当前应用的分布而偏移；

断言对随机变量的标准化偏移和/或缩放，以对分布的差异建模；以及

基于分布的差异的模型，优化所述集成电路的设计布局，

其中，使用处理器来执行查询制造测量；

其中，所述方法还包括：

基于所述制造测量，定义修改用于所述集成电路设计的至少一个级别的变化的至少一个来源的偏移和缩放因子，其中，所述建模包括：使用所述偏移和缩放因子，对变化性的至少两个来源建模。

9.如权利要求8所述的方法，还包括：基于所述制造测量，定义所述集成电路设计的至少一个级别的相关系数，其中，所述建模包括：使用所述相关系数，对分布的差异建模。

10.如权利要求8所述的方法，还包括：

提取寄生参数；以及

使用分布的差异的模型和寄生参数，执行所述集成电路设计的统计静态定时分析SSTA。

11.如权利要求10所述的方法，其中，所述寄生参数是颜色感知的寄生参数。

12.如权利要求8所述的方法，其中，变化的至少一个来源包括变化的至少一个来源的平均分布、对变化的至少一个来源的全局分布的敏感度、对变化的至少一个来源的空间分布的敏感度、以及对变化的至少一个来源的随机分布的敏感度。

13.如权利要求8所述的方法，其中，通过至少两个不同的光掩模来创建至少两个图案。