[发明专利]一种扩散炉管

说明书

技术领域

本发明涉及的是半导体电子元器件制造技术领域，尤其是涉及一种扩散炉管的改进。

背景技术

扩散炉管是半导体器件及大规模集成电路制造过程中用于对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺的一种加工装置。主要反应装置一般分为水平式和直立式两种，半导体材料在高纯净的反应腔内进行高温反应，此过程一般需要通入不同种类的气体或对腔体进行抽真空处理。整个生产过程需要操作、生产设备需要纯净、轻便、耐高温。在生产过程中，需通过打开观察孔对炉管进行监控，在打开观察孔进行观察的同时，炉管内的尾气随之排出。目前多数设备炉帽部分无直接将尾气排入抽风管道的装置，直接将废气排入车间内，污染了室内环境，不利于工人的身体健康，影响生产效率。这是现有技术的不足之处。

发明内容

本发明的目的在于，克服现有技术的不足，提供了一种结构简单、对环境不造成污染的一种扩散炉管。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案为：一种扩散炉管，包括有炉管、炉帽、观察孔等，其特征在于：在所述炉帽上还设置有尾气排放管道。

本发明的进一步改进有，所述尾气排放管道设置在所述观察孔的正上方。

本发明的进一步改进还有，所述尾气排放管道与抽风管道相连。

说明书中没有描述的结构属于现有技术。尾气排放管道用石英材料制成。

本方案的有益效果可根据对上述方案的叙述得知，一种扩散炉管，包括有炉管、炉帽、观察孔等，其特征在于：在所述炉帽上还设置有尾气排放管道。本发明的有益效果是：直接将尾气排入抽风管道， 不会对环境造成污染，改善了劳动条件，保障了工人的身体健康，提高了工作效率，结构简单实用。

附图说明

图1为本发明的结构示意图,图2为发明的炉帽部分结构示意图。图中：1是观察孔，2是手柄，3是尾气排放管道，4是炉帽，5是炉管,6是对接磨砂球体。

具体实施方式

 下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明。

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细说明，通过附图可以看出，一种扩散炉管，包括有炉管5、炉帽4、观察孔1等，在炉帽4上还设置有尾气排放管道3。尾气排放管道3设置在观察孔1的正上方。尾气排放管道3与抽风管道相连。

当然，上述说明并非对本发明的限制，本发明也不仅限于上述举例，本技术领域的普通技术人员在本发明的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也属于本发明的保护范围。