[发明专利]研磨液分配臂无效
申请号: | 201310532301.4 | 申请日: | 2013-10-31 |
公开(公告)号: | CN103551959A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 李春清;韦树宝 | 申请(专利权)人: | 桂林福冈新材料有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B57/02 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 陈月福 |
地址: | 541002 广西壮*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 分配 | ||
技术领域
本发明涉及于半导体技术领域,具体地说,涉及一种研磨液分配臂。
背景技术
随着化学机械研磨的广泛应用和制造工艺的开发,需要进行对基材先后进行铜的化学电镀和铜的化学机械研磨的应用越来越广泛。但是,在生产能力上,化学机械研磨的生产相比前一站铜的化学电镀来说比较慢,因此,总体来说,化学机械研磨成为制约后道铜工艺产能的一个大的瓶颈。
目前,已有众多化学机械研磨设备厂商为提高化学机械研磨的生产能力而开发新设备。但是这些化学机械研磨的型设备共同的解决方案为:扩大研磨台面的面积、增加研磨头的数量。随之而来的是研磨台面越来越大,可以在研磨台面上研磨的研磨头也随之越来越来越多。而使得相应的作为重要耗材的研磨液使用量也越来越大。
但是,无论是现有的化学机械研磨工艺还是改进的化学机械研磨工艺,其在化学机械研磨工艺过程中,为了实现对基材的研磨,调整的对象却没有较大区别。比如,通常的调整对象主要包括:(1)调整研磨头的压力、转速;(2)调整研磨台面的转速;(3)调整研磨液的流量。
但是,现有技术中通过研磨头和研磨台面的转速调整,对wafer的profile和Non-uniformity的控制是非线性的,仅靠转速的调整很难达到需要的平坦度。另外,与研磨液相关的调整仅限于流量,而不是分布式的。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种研磨液分配臂,用以实现线性和分布式控制。
本发明解决上述技术问题的技术方案如下:一种研磨液分配臂,位于研磨台面正上方,包括第一机械臂、第二机械臂和控制模块,所述第一机械臂与所述第二机械臂的一端连接,所述第二机械臂的另一端设置有研磨液输出口,所述控制模块通过控制所述第一机械臂摆动、所述第二机械臂摆动,以实现所述研磨液输出口研磨液喷洒方向的控制。
进一步,所述第一机械臂和第二机械臂内部设有贯通的研磨液管道,通过所述研磨液管道将研磨液输送到所述研磨液输出口。
进一步,所述第一机械臂一端设置有第一马达,所述第一机械臂的另外一端通过第二马达与所述第二机械臂的一端连接,所述第二机械臂的另外一端通过第三马达与所述研磨液输出口相连接。
进一步,所述控制模块通过控制所述第一马达、第二马达和第三马达的转动,实现所述第一机械臂围绕所述第一马达摆动、所述第二机械臂围绕所述第二马达摆动、所述研磨液输出口围绕所述第三马达摆动,以实现所述研磨液输出口位置和方向的控制。
本发明的有益效果是:通过所述控制模块控制所述第一机械臂摆动、所述第二机械臂摆动和所述研磨液输出口摆动,不但可以实现流量的控制,还可以调整研磨液输出口与研磨台相对位置,从而实现研磨液输出口研磨液喷洒方向的控制,最终实现了线性和分布式控制。
附图说明
图1为本发明研磨液分配臂的俯视结构示意图;
图2为本发明中第一机械臂结构示意图;
图3为本发明中第一机械臂与第二机械臂的连接示意图;
图4为本发明中第二机械臂与研磨液输出口的连接示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本发明,并非用于限定本发明的范围。
如图1所示,为本发明实施例的研磨液分配臂俯视结构示意图,位于研磨台10面正上方,其包括:第一机械臂1、第二机械臂2和控制模块(未画出),所述第一机械臂1的一端1b与所述第二机械臂2的一端2a连接,所述第二机械臂2的另一端2b设置有研磨液输出口6,所述控制模块通过控制所述第一机械臂1摆动、所述第二机械臂2摆动,以实现所述研磨液输出口6研磨液喷洒方向的控制;详细参加下述内容。
本实施例中,如图2所示,为本发明中第一机械臂结构示意图,所述第一机械臂1内部设有研磨液管道4,第一机械臂1的一端1a设置有第一马达51,所述第一机械臂1的一端1a设置所述第一马达51的转轴上;控制模块控制第一马达51转轴的转动,从而实现第一机械臂1绕第一马达51转动。
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