[发明专利]矩形形成模具用基板

说明书

矩形基板在其具有拓扑图案后用作模具。该基板具有A侧和B侧的相对表面，该A侧表面具有拓扑图案。该A侧表面包括具有至多350nm的平坦度的1～50毫米×1～50毫米的中心矩形区域。使用该形成模具用基板防止在形成模具用基板上形成团的步骤与转印步骤之间发生图案错排或图案错误。能够转印微小尺寸和复杂的图案。

技术领域

本发明涉及用于形成模具的矩形基板，所述模具适用于纳米压印光刻法，并在制造电子器件、光学元件、存储元件、生物电子元件等等的工艺中充当用于在表面上形成拓扑图案的模板。

背景技术

在电子器件、光学元件、存储元件、生物电子元件等等的制造中，不仅要求更高的性能和进一步的小型化，同时还要求降低制造成本。在这种情况下，由于纳米压印光刻法（NIL）与传统光刻法工艺相比可以降低微图案化的成本，因此其变得突出。在NIL法中，通过机械手段形成拓扑图案。具体而言，将表面上具有所需拓扑图案的模具压向接收基板上的给定厚度的树脂层，由此将模具上的拓扑图案转印到该树脂层上。参见专利文献1。将拓扑图案已经通过压制转印到其上的树脂层固化，由此保持该树脂层的形状。固化通常通过UV固化和热固化方式实施。在任一方式中，重要的是将形成模具用基板与带有树脂层的接收基板挤压在一起，同时保持它们之间的平行性并在接触平面中提供均匀的压力。具有拓扑图案的形成模具用基板需要具有高形状精度。参见专利文献2。

用于NIL法的形成模具用基板具有不同的外部形状，其包括65毫米见方或152毫米见方的矩形形状，以及直径为50毫米、100毫米、150毫米或200毫米的圆形形状，根据预期用途进行选择。另一方面，起主要模具作用并在其上形成拓扑或凸起/凹陷图案的形成模具用基板区域通常具有比外部形状更小的面积(典型地少于4,000mm²)，并通常位于该形成模具用基板中心周围。通常，存在着这样的趋势：随着所转印的图案的特征尺寸变得更精细，形成图案的面积变得更小。

原因在于，图案特征尺寸变得越细时，模具对接收基板的平行性和压力均匀性所需的精确度变得更高；并且如果形成图案的面积越小，可以提高这些精确度。另一方面，模具外部形状大于形成图案的区域的趋势是由于制造NIL模具的方法。NIL模具制造方法通常包括通过溅射沉积金属膜的步骤，使用EB直写设备将所需精细图案转印到金属膜上的光刻步骤，和干蚀刻图案化金属膜与接收基板表面的步骤。从经济与可行性方面来看，这些步骤通常以共享方式利用传统光刻技术中使用的设备。因此，装载在这些设备上的形成模具用基板的尺寸不可避免地对应于传统光刻技术中使用的基板的尺寸，导致了NIL模具的外部形状尺寸大于形成图案的区域的趋势。

近年来，光（UV）纳米压印光刻法遇到了不断增长的需求以提供用于转印的具有更微小尺寸图案或更复杂图案的模具。由于这样的需求以及上述原因，形成模具用基板的平坦度，尤其是具有图案且起主要模具作用的区域的平坦度是至关重要的。当待转印图案具有更精细的尺寸或更高的复杂性时，出现了更强的可能性，即除非该表面完全平坦，否则在模具制造过程中的图案与转印步骤过程中的图案之间将会发生错排，导致图案错误。

引文列表

专利文献1：JP-A2005-533393（WO2004/016406）

专利文献2：JP-A H03-54569

专利文献3：JP-A2006-506814（WO2004/044651）

专利文献4：JP-A2002-318450（USP6869732，EP1253117A1）

发明概述

本发明的目的在于提供矩形形成模具用基板，其中形成图案的区域具有令人满意的平坦度，以使该形成模具用基板适于保持带有图案的表面与接收基板之间的平行性的同时将基板的带有图案的表面在接触区域内在均匀压力下压制到接收基板上。