[发明专利]一种形成导电功能图案的图形化方法与应用

权利要求书

1.一种形成导电功能图案的图形化方法，包括如下步骤：

将导电高分子聚合物浆料涂布于基材表面，形成导电层，并对其进行固化处理；

将制备的图案模板屏蔽于所述导电层表面，形成遮盖层；

将设有遮盖层的所述导电层采用100-400nm波长的UV光进行照射处理，后移去所述遮盖层，得导电功能图案。

2.根据权利要求1所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述波长为150-254nm。

3.根据权利要求1所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述导电高分子聚合物浆料的重量百分浓度为60～90%。

4.根据权利要求1～3任一所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述导电高分子聚合物为聚吡咯、聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯衍生物、聚苯胺衍生物、聚噻吩衍生物中的一种或两种以上复合物。

5.根据权利要求4所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述导电高分子为聚(3,4-二烷氧基氧噻吩)和/或其衍生物。

6.根据权利要求5所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，经固化处理后的所述导电层的厚度为1nm～10μm。

7.根据权利要求1～3任一所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述基材选自玻璃类、晶片类、聚酯类或聚烯烃类的一种。

8.根据权利要求1～3任一所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述导电功能图案为2-500μm线宽的线路图。

9.根据权利要求8所述的形成导电功能图案的图形化方法，其特征在于，所述线路图的最小线宽为30μm以下。

10.权利要求1～9任一所述的形成导电功能图案的图形化方法，应用于电容触摸屏、OLED显示器、电子标签以及EL冷光片中。