[发明专利]监控生产工艺的方法及生产工艺监控装置

权利要求书

1.一种监控生产工艺的方法，所述方法包括：

通过使用测量装置分析等离子体发射光的发射强度来产生测量数据，当生产工艺装置中的等离子体气体由对应于高能态的能级变成对应于低能态的能级时产生所述等离子体发射光；

基于测量数据产生补偿值，所述补偿值通过抵消由于生产工艺装置和测量装置的污染或测量装置的测量位置导致的灵敏度的变化而产生；

基于补偿值监控生产工艺，

其中，将补偿值确定为归一化值，所述归一化值通过基于等离子体发射光关于预设波段或整个波段的发射强度的平均值和标准偏差将等离子体发射光的发射强度归一化而产生。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，监控生产工艺包括：

基于补偿值执行端点检测操作。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，监控生产工艺包括：

基于补偿值对生产工艺装置执行泄漏检测操作。

4.一种监控生产工艺的方法，所述方法包括：

通过将生产工艺装置中的气体注入将所述气体转变为等离子体气体的产生装置来产生等离子体气体；

通过使用测量装置分析等离子体发射光的发射强度来产生测量数据，当等离子体气体由对应于高能态的能级变成对应于低能态的能级时产生所述等离子体发射光；

基于测量数据产生补偿值，所述补偿值通过抵消由于生产工艺装置和测量装置的污染或测量装置的测量位置导致的灵敏度的变化而产生；

基于补偿值监控生产工艺，

其中，将补偿值确定为归一化值，所述归一化值通过基于等离子体发射光关于预设波段或整个波段的发射强度的平均值和标准偏差将等离子体发射光的发射强度归一化而产生。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，监控生产工艺包括：

基于补偿值执行端点检测操作。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，监控生产工艺包括：

基于补偿值对生产工艺装置执行泄漏检测操作。

7.一种生产工艺监控装置，所述生产工艺监控装置包括：

测量单元，被配置为通过分析等离子体发射光的发射强度来产生测量数据，当生产工艺装置中的等离子体气体从对应于高能态的能级变成对应于低能态的能级时产生所述等离子体发射光；

控制单元，被配置为基于测量数据产生补偿值并基于补偿值监控生产工艺，所述补偿值通过抵消由于生产工艺装置和测量单元的污染或测量单元的测量位置导致的灵敏度的变化而产生，

控制单元将补偿值确定为归一化值，所述归一化值通过基于等离子体发射光关于预设波段或整个波段的发射强度的平均值和标准偏差将等离子体发射光的发射强度归一化而产生。

8.根据权利要求7所述的装置，所述生产工艺监控装置还包括：

输出单元，被配置为显示从控制单元输出的监控结果。

9.一种生产工艺监控装置，包括：

产生单元，被配置为接收生产工艺装置的气体，并基于生产工艺装置的气体产生等离子体气体；

测量单元，被配置为通过分析等离子体发射光的发射强度来产生测量数据，当产生单元的等离子体气体从对应于高能态的能级变成对应于低能态的能级时产生所述等离子体发射光；

控制单元，被配置为基于测量数据产生补偿值并基于补偿值监控生产工艺，所述补偿值通过抵消由于生产工艺装置和测量单元的污染或测量单元的测量位置导致的灵敏度的变化而产生，

控制单元将补偿值确定为归一化值，所述归一化值通过基于等离子体发射光关于预设波段或整个波段的发射强度的平均值和标准偏差将等离子体发射光的发射强度归一化而产生。

10.根据权利要求9所述的装置，所述生产工艺监控装置还包括：

输出单元，被配置为显示从控制单元输出的监控结果。