[发明专利]触控面板传感器的制造方法及触控面板传感器

说明书

技术领域

本申请主张基于2012年11月15日申请的日本专利申请第2012-251285的优先权。其申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

本发明涉及一种触控面板传感器的制造方法及触控面板传感器。

背景技术

作为触控面板传感器已知有在基板上形成预定图案的透明导电膜的方法。例如，专利文献1所示的触控面板的制造方法中，通过进行在抗蚀剂层上曝光预定图案的光刻蚀工序之后对透明导电膜进行蚀刻来形成图案。

专利文献1：日本特开2012-164079号公报

然而，在通过专利文献1的制造方法而制造的触控面板传感器中，由于存在形成有透明导电膜的图案的部分与未形成透明导电膜的图案的部分，从而存在用作触控面板时看得到透明导电膜的图案的问题。为使不易看得到图案而将透明导电膜变薄时薄膜方阻值上升，因而存在操作触控面板时的噪声较大且容易导致故障等问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种无需降低性能而能够使触控面板的外观良好的触控面板传感器及其制造方法。

本发明所涉及的触控面板传感器的制造方法，所述触控面板传感器具备基板及形成于基板上的透明导电膜，该方法具备：准备工序，准备将透明导电膜形成于表面的基板；设置工序，将具有形成有覆盖透明导电膜的第1区域及使透明导电膜露出的第2区域的图案的图案形成部件设置在透明导电膜上；图案形成工序，通过向与第2区域对应的部分的透明导电膜注入氧、氧离子、氮、氮离子、氮氧化物、及氮氧化物离子中的至少任一个照射物来形成绝缘部，将由第1区域覆盖的部分的透明导电膜作为导电部进行图案形成；及去除工序，从透明导电膜上去除图案形成部件。

根据本发明所涉及的触控面板的制造方法，与图案形成部件的第2区域对应的部分成为露出透明导电膜的状态。由此，该部分通过注入氧或氧离子来成为过氧化状态从而成为不具有导电性的绝缘部。并且，通过注入氮、氮离子、氮氧化物、或氮氧化物离子而在该部分形成具有绝缘性的氮化合物，因此成为不具有导电性的绝缘部。另一方面，与图案形成部件的第1区域对应的部分中成为透明导电膜由抗蚀剂层覆盖的状态。由此，该部分无需注入氧、氧离子、氮、氮离子、氮氧化物、及氮氧化物离子而作为具有导电性的导电部用与图案形成部件的第1区域对应的图案进行图案形成。由此，对透明导电膜进行电性图案形成。另一方面，导电部及绝缘部用相同的材料以相同的膜厚形成，因此成为无法目视导电部的图案形状的状态。即，能够设为在光学上还未进行图案形成的状态。不使透明导电膜的膜厚变薄也能够看得到图案，因此能够维持作为触控面板传感器的性能。如上所述，无需降低性能就能够使触控面板的外观良好。

本发明所涉及的触控面板传感器的制造方法中，在透明导电膜上形成抗蚀剂层且残留与第1区域对应的部分的抗蚀剂层，并且从透明导电膜上去除与第2区域对应的部分的抗蚀剂层，从而可在透明导电膜上设置图案形成部件。根据以上方法，能够按每一个触控面板传感器设置图案形成部件，因此能够高精度地形成导电部及绝缘部。

在本发明所涉及的触控面板传感器的制造方法中，准备预先形成有第1区域及第2区域的图案形成部件，并且配置在透明导电膜上，从而也可在透明导电膜上设置图案形成部件。根据以上方法，能够多次循环使用图案形成部件，因此能够抑制成本。

本发明所涉及的触控面板传感器的制造方法中，可还具备如下蚀刻工序，即将能量低于在图案形成工序中被注入的照射物的能量的照射物照射于绝缘部，且对绝缘部的表面进行蚀刻。根据以上方法，能够通过将该绝缘部变薄来使导电部与绝缘部之间的光学条件更加相近。

本发明所涉及的触控面板传感器具备基板及形成于基板上的透明导电膜，透明导电膜具有具备预定图案的导电部、和氧量、氮量、及氮氧化物量中的至少任一个比该导电部多的绝缘部。

根据本发明所涉及的触控面板传感器，能够得到与上述触控面板传感器的制造方法相同的效果。

发明效果

根据本发明，无需降低性能而能够使外观良好。

附图说明

图1是表示用于制造本发明的触控面板传感器的制造装置的一实施方式的块结构图。

图2是表示本发明的实施方式所涉及的触控面板传感器的结构的图。

图3是表示本发明的实施方式所涉及的触控面板传感器的结构的图。

图4是表示本发明的实施方式所涉及的触控面板传感器的制造方法的内容的流程图。

图5是用于说明图4所示的各工序的内容的示意图。

图6是用于说明图4所示的各工序的内容的示意图。